[發(fā)明專利]一種基于水力屏障的地下水原位修復(fù)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811651310.4
• 申請(qǐng)日: 2018-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN109848193B
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李韜;王蓉;陳展;宋曉光;梁穎;張剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海勘察設(shè)計(jì)研究院（集團(tuán)）有限公司
• 主分類號(hào): B09C1/00
• 分類號(hào): B09C1/00
• 代理公司: 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 31214
• 代理人: 黃明凱

1.一種基于水力屏障的地下水原位修復(fù)方法，其特征在于所述修復(fù)方法包括以下步驟：在待修復(fù)區(qū)域邊界間隔設(shè)置若干水力屏障井并持續(xù)注入清潔水形成水力屏障；在所述待修復(fù)區(qū)域內(nèi)間隔設(shè)置若干修復(fù)井，所述修復(fù)井具有抽提和注入兩種工況；根據(jù)所述待修復(fù)區(qū)域的形狀使具有相同工況的所述修復(fù)井呈間隔設(shè)置的若干排或者若干環(huán)，通過處于注入工況下的所述修復(fù)井往所述待修復(fù)區(qū)域內(nèi)注入清潔水，并通過處于抽提工況下的所述修復(fù)井抽提所述待修復(fù)區(qū)域內(nèi)地下水中的污染物；

所述待修復(fù)區(qū)域內(nèi)間隔設(shè)置有若干過程監(jiān)測(cè)井；利用所述過程監(jiān)測(cè)井監(jiān)測(cè)所述待修復(fù)區(qū)域內(nèi)地下水是否達(dá)標(biāo)，當(dāng)所述待修復(fù)區(qū)域內(nèi)的部分區(qū)域地下水未達(dá)標(biāo)時(shí)，切換該未達(dá)標(biāo)區(qū)域中的所述修復(fù)井的工況，并根據(jù)所述未達(dá)標(biāo)區(qū)域的形狀使具有相同工況的所述修復(fù)井呈間隔設(shè)置的若干排或者若干環(huán)，從而抽提出處在抽提工況下的所述修復(fù)井影響范圍內(nèi)地下水中的污染物；利用所述過程監(jiān)測(cè)井監(jiān)測(cè)所述未達(dá)標(biāo)區(qū)域內(nèi)地下水是否達(dá)標(biāo)，當(dāng)所述未達(dá)標(biāo)區(qū)域內(nèi)的部分區(qū)域地下水仍未達(dá)標(biāo)時(shí)，使位于該仍未達(dá)標(biāo)的重點(diǎn)區(qū)域外的所述修復(fù)井的工況為注入工況，而位于所述重點(diǎn)區(qū)域中的所述修復(fù)井的工況為抽提工況，重點(diǎn)抽提所述重點(diǎn)區(qū)域內(nèi)地下水中的污染物，直至修復(fù)達(dá)標(biāo)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于水力屏障的地下水原位修復(fù)方法，其特征在于所述修復(fù)井以及所述水力屏障井的井間距在粘性土中為1.5-3.0m、在粉性土中為3-6m、在砂性土中為6-15m。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于水力屏障的地下水原位修復(fù)方法，其特征在于所述修復(fù)井以及所述水力屏障井采用小管井，井管直徑為75-110mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于水力屏障的地下水原位修復(fù)方法，其特征在于所述修復(fù)井以及所述水力屏障井采用大管井，井管直徑為160-200mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于水力屏障的地下水原位修復(fù)方法，其特征在于所述修復(fù)井的抽提管路與注入管路相互獨(dú)立，所述抽提管路中的抽提水泵為水環(huán)式真空泵。