[發明專利]X射線雙相位光柵相襯成像系統在審
| 申請號： | 201811647639.3 | 申請日： | 2018-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN109557116A | 公開（公告）日： | 2019-04-02 |
| 發明（設計）人： | 李冀;雷耀虎;黃建衡;劉鑫 | 申請（專利權）人： | 深圳大學 |
| 主分類號： | G01N23/041 | 分類號： | G01N23/041 |
| 代理公司： | 深圳市瑞方達知識產權事務所(普通合伙) 44314 | 代理人： | 張秋紅;郭方偉 |
| 地址： | 518060 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 相位光柵 源光柵 相襯成像系統 高深寬比 次級源 自成像 光柵相襯成像 間隔設置 吸收光柵 依次設置 | ||
1.一種X射線雙相位光柵相襯成像系統，包括沿X射線發射方向依次設置的X射線管、源光柵G0、相位光柵和X射線探測器，其特征在于，所述相位光柵包括間隔設置第一相位光柵G1和第二相位光柵G′1，所述第一相位光柵G1、第二相位光柵G′1位于源光柵G0和X射線探測器之間，在第一相位光柵G1后形成自成像次級源G2；所述X射線管發出的X射線、源光柵G0與第一相位光柵G1組成一個泰伯勞系統；所述自成像次級源G2與第二相位光柵G′1組成逆泰伯勞系統。
2.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述第一相位光柵G1的位置與周期滿足：使X射線經源光柵G0后傳播到第一相位光柵G1處的相干長度不小于第一相位光柵G1的周期；所述第二相位光柵G′1的位置與周期滿足：自成像次級源G2傳播到第二相位光柵G′1處的相干長度不小于第二相位光柵G′1的周期。
3.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述自成像次級源G2位于所述第一相位光柵G1的泰伯距離處。
4.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述第一相位光柵G1和第二相位光柵G′1的周期相同；所述源光柵G0與第一相位光柵G1之間的間距R1、第二相位光柵G′1與其形成的自成像條紋G′2之間的間距R2′相等；
或者所述第一相位光柵G1和第二相位光柵G′1的周期不同；所述源光柵G0與第一相位光柵G1之間的間距R1、第二相位光柵G′1與其形成的自成像條紋G′2之間的間距R2′不同。
5.根據權利要求4所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述第二相位光柵G′1形成的自成像條紋G′2的周期為20-300微米。
6.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述源光柵G0為將入射光調制為相干光的吸收光柵，或者為耦合到X射線陽極靶上的源光柵結構。
7.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述源光柵G0的周期為1-50微米，占空比為0.25-0.5。
8.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述X射線管與所述源光柵G0的距離為0mm-100mm；所述源光柵G0與所述第一相位光柵G1的距離為5mm-1000mm；所述第二相位光柵G′1與所述X射線探測器的距離為100mm-2000mm。
9.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述第一相位光柵G1和第二相位光柵G′1都各自包括交替設置的透過X光線的透過層和相位改變層。
10.根據權利要求1所述的X射線雙相位光柵相襯成像系統，其特征在于，所述X射線探測器前，并在第二相位光柵G′1的泰伯距離處可設有一周期與自成像條紋G′2相同的吸收光柵。
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