[發(fā)明專利]一種超極限鈦合金及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811645669.0 | 申請日: | 2018-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN109554708B | 公開(公告)日: | 2020-01-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮晶;楊凱龍;宋鵬;種曉宇;葛振華 | 申請(專利權(quán))人: | 昆明理工大學(xué) |
| 主分類號: | C23C28/00 | 分類號: | C23C28/00;B05D7/24;B05D7/14;B05D5/06;B05D5/00 |
| 代理公司: | 50217 重慶強(qiáng)大凱創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 李靜 |
| 地址: | 650093 云南*** | 國省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鈦合金基體 鈦合金 沉積 熔點(diǎn) 復(fù)合陶瓷層 復(fù)合粘結(jié)層 制備 絕緣層 陶瓷 化學(xué)穩(wěn)定性 粘結(jié)層表面 鈦合金材料 表面沉積 多層涂層 高溫力學(xué) 貴金屬層 極限環(huán)境 溫度提升 反射層 泡沫碳 粘結(jié)層 折射層 | ||
1.一種超極限鈦合金,包括鈦合金基體,其特征在于:所述鈦合金基體表面依次沉積有復(fù)合粘結(jié)層和復(fù)合陶瓷層;復(fù)合粘結(jié)層包括沉積在鈦合金基體表面的粘結(jié)層和沉積在粘結(jié)層表面的貴金屬層;復(fù)合陶瓷層包括陶瓷A層和陶瓷B層;粘結(jié)層的厚度為20-30μm,貴金屬層的厚度為40-60μm,復(fù)合陶瓷層的厚度為100-150μm,復(fù)合陶瓷層上還依次沉積有厚度為10-30μm的反射層、厚度為20-30μm的反折射層、厚度為100-200μm的絕緣層和厚度為20-200μm的泡沫碳層;粘結(jié)層成分為MCrAlY、NiAl、NiCr-Al、Mo合金中的一種或幾種的混合物,MCrAlY為NiCrCoAlY、NiCoCrAlY、CoNiCrAlY或CoCrAlY;貴金屬層的成分為Au、Pt、Ru、Rh、Pd、Ir中的一種或多種的合金;陶瓷A層的成分為YSZ或稀土鋯酸鹽(RE2Zr2O7),陶瓷B層的成分為ZrO2-RETaO4;反射層的成分為REVO4、RETaO4、Y2O3中的一種或幾種的混合物;反折射層的成分為石墨烯或碳化硼中的一種或兩種的混合物,且石墨烯和碳化硼的空間分布均呈無序排列狀態(tài);絕緣層的成分為環(huán)氧樹脂、酚醛樹脂、ABS樹脂中的一種或幾種的混合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超極限鈦合金的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:利用HVOF法在鈦合金基體表面沉積粘結(jié)層;并利用EB-PVD法在粘結(jié)層表面沉積貴金屬層,使得粘結(jié)層和貴金屬層形成復(fù)合粘結(jié)層,所述粘結(jié)層的厚度為20-30μm,所述貴金屬層的厚度為40-60μm;
步驟2:利用HVOF法在步驟1得到的復(fù)合粘結(jié)層表面沉積陶瓷A層和陶瓷B層,使得陶瓷A層和陶瓷B層形成復(fù)合陶瓷層,復(fù)合陶瓷層的總厚度為100-150μm;
步驟3:利用HVOF法在步驟2得到的復(fù)合陶瓷層表面沉積反射層,反射層的厚度為10-30μm;
步驟4:利用涂刷法在步驟3得到的反射層表面沉積反折射層,反折射層的厚度為20-30μm;
步驟5:利用涂刷法在步驟4得到的反折射層表面沉積絕緣層,絕緣層的厚度為100-200μm;
步驟6:利用涂刷法在步驟5得到的絕緣層表面沉積泡沫碳層,泡沫碳層的厚度為20-200μm,從而形成超極限鈦合金。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種超極限鈦合金的制備方法,其特征在于:所述步驟2中,形成陶瓷B層的ZrO2-RETaO4為粉體,所述ZrO2-RETaO4粉體的粒徑為10~70μm,且形貌呈球形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種超極限鈦合金的制備方法,其特征在于:所述步驟1中,在沉積粘結(jié)層之前,對鈦合金基體表面進(jìn)行預(yù)處理,所述預(yù)處理包括去油污和除雜質(zhì);所述鈦合金基體表面預(yù)處理后,對鈦合金基體的表面進(jìn)行噴丸處理,使得鈦合金基體的表面粗糙度為60-100μm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C28-00 用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大組中單一組的方法,或用包含在C23C小類的方法與C25D小類中方法的組合以獲得至少二層疊加層的鍍覆
C23C28-02 .僅為金屬材料覆層
C23C28-04 .僅為無機(jī)非金屬材料覆層
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