[發明專利]一種發聲器件

在審

• 申請號: 201811641214.1
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109788412A
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 張古清
• 申請（專利權）人: 瑞聲聲學科技（深圳）有限公司
• 主分類號: H04R9/06
• 分類號: H04R9/06;H04R9/02
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312
• 代理人: 袁文英

1.一種發聲器件，其包括振動結構、磁路結構以及容置所述振動結構和所述磁路結構的殼體，所述殼體包括盆架和蓋接于所述盆架上端的前蓋，所述振動結構包括音膜，所述音膜設置于所述盆架和所述前蓋之間，所述盆架靠近音膜的一端具有膠合面，所述音膜的周緣與所述膠合面膠合固定，其特征在于，所述音膜包括位于中央位置的球頂部以及環繞所述球頂部的折環部，所述盆架包括靠近所述折環部的內側面和遠離所述折環部的外側面，所述內側面上開設有第一容納槽，所述第一容納槽自所述內側面向遠離所述折環部方向凹陷，所述第一容納槽向靠近所述音膜的方向貫穿所述膠合面。

2.如權利要求1所述的發聲器件，其特征在于，所述外側面上開設有第二容納槽，所述第二容納槽自所述外側面向靠近所述折環部方向凹陷，所述第二容納槽向靠近所述音膜的方向貫穿所述膠合面。

3.如權利要求2所述的發聲器件，其特征在于，所述膠合面設有第三容納槽，所述第三容納槽自所述膠合面向遠離所述音膜方向凹陷，所述第三容納槽與所述內側面和所述外側面間隔設置。

4.如權利要求1至3中任意一項所述的發聲器件，其特征在于，所述膠合面沿所述盆架的外圈周向設置。

5.如權利要求1所述的發聲器件，其特征在于，所述第一容納槽沿所述內側面的周向為連續結構或間隔設置結構。

6.如權利要求2所述的發聲器件，其特征在于，所述第二容納槽沿所述外側面的周向為連續結構或間隔設置結構。

7.如權利要求3所述的發聲器件，其特征在于，所述第三容納槽沿所述膠合面的周向為連續結構或間隔設置結構。

8.如權利要求3所述的發聲器件，其特征在于，所述第一容納槽、第二容納槽以及所述第三容納槽為方形槽，所述第一容納槽自所述內側面至所述外側面方向的深度等于或者大于0.05mm，所述第二容納槽自所述外側面至所述內側面方向的深度等于或者大于0.05mm，所述第一容納槽和所述第二容納槽自所述膠合面至遠離所述音膜方向的深度等于或者大于0.05mm。

9.如權利要求3所述的發聲器件，其特征在于，所述音膜還包括由所述折環部向外延伸形成的連接部，所述連接部與所述膠合面膠合固定，且所述第一容納槽和所述第二容納槽在所述連接部上的正投影完全落在所述連接部上。

10.如權利要求3所述的發聲器件，其特征在于，所述第一容納槽、所述第二容納槽以及所述第三容納槽為弧形槽，其在經過所述發聲器件的中心線的橫截面上為弧面。