[發(fā)明專利]一種化學機械拋光液

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201811639166.2
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN111378381A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 卞鵬程;荊建芬;姚穎;李恒;黃悅銳;馬健
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 北京大成律師事務(wù)所 11352
• 代理人: 李佳銘;王芳

1.一種堿性化學機械拋光液，包括二氧化硅研磨顆粒、唑類化合物、絡(luò)合劑、陰離子表面活性劑、鉀鹽和氧化劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述濃縮樣中研磨顆粒的質(zhì)量百分比含量為10％-35％。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述濃縮樣中研磨顆粒的質(zhì)量百分比含量為15％-30％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述研磨顆粒的粒徑為20nm-200nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述研磨顆粒的粒徑為40nm-160nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述唑類化合物包括苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、5-苯基四氮唑、5-氨基-四氮唑、巰基苯基四氮唑、苯并咪唑、萘并三唑、2-巰基-苯并噻唑中的一種或多種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述唑類化合物的質(zhì)量百分比含量為0.005％-1％。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述唑類化合物的質(zhì)量百分比含量為0.01％-0.5％。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述絡(luò)合劑包括乙酸、丙酸、草酸、丙二酸、丁二酸、檸檬酸、磷酸、乙二胺四乙酸、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羥基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸中的一種或多種。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述絡(luò)合劑的質(zhì)量百分比含量為0.01％-2％。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述絡(luò)合劑的質(zhì)量百分比含量為0.05％-1％。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述陰離子表面活性劑的親水基包括羧酸、磺酸、硫酸、磷酸或膦酸及其鹽中的一種或多種；所述陰離子表面活性劑的疏水基包括烷基、芳基、烷基與芳基的混合物中的一種或多種。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述陰離子表面活性劑包括(C8～C18)烷基苯磺酸鹽、(C8～C18)烷基芳烴磺酸鹽、亞甲基二萘磺酸鹽、烯丙基磺酸鹽、(C8～C18)烷基硫酸鹽、(C8～C18)烷基芳烴硫酸鹽、亞甲基二萘硫酸鹽、烯丙基硫酸鹽、磷酸乙酯、磷酸丁酯、磷酸辛酯中的一種或多種。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述陰離子表面活性劑的質(zhì)量百分比含量為0.001％-0.5％。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述陰離子表面活性劑的質(zhì)量百分比含量為0.01％-0.2％。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑為過氧化氫。

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑的質(zhì)量百分比含量為0.1％-1％。

18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述鉀鹽為氫氧化鉀、碳酸鉀、碳酸氫鉀中的一種或多種。