[發明專利]一種化學機械拋光液及其應用

有效

• 申請號: 201811635515.3
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN111378378B
• 公開（公告）日: 2023-09-08
• 發明（設計）人: 馬健;荊建芬;楊俊雅;宋凱;蔡鑫元;汪國豪;卞鵬程
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C11D1/12
• 分類號: C11D1/12
• 代理公司: 北京大成律師事務所 11352
• 代理人: 李佳銘;王芳

1.一種化學機械拋光液，包含二氧化硅研磨顆粒，腐蝕抑制劑，絡合劑，氧化劑，烴基磺酸鹽類陰離子表面活性劑，金屬表面缺陷改善劑，其中，所述二氧化硅研磨顆粒的平均粒徑為60-140nm，粒徑分布指數為0.1-0.6，所述化學機械拋光液的pH值為5-7.5；所述金屬表面缺陷改善劑為多元醇；所述腐蝕抑制劑包括1，2，4-三氮唑、3-氨基-1，2，4-三氮唑、4-氨基-1，2，4-三氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、3-氨基-5-巰基-1，2，4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一種或多種。

2.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述二氧化硅研磨顆粒的平均粒徑為80-120nm。

3.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述二氧化硅研磨顆粒的質量百分比含量為0.05％-2％。

4.根據權利要求3所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述二氧化硅研磨顆粒的質量百分比含量為0.1％-1％。

5.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述絡合劑包括甘氨酸、丙氨酸、纈氨酸、亮氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、賴氨酸、精氨酸、組氨酸、絲氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、環己烷四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸、三乙烯四胺六乙酸中的一種或多種。

6.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述絡合劑的質量百分比含量為0.1％-5％。

7.根據權利要求6所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述絡合劑的質量百分比含量為0.5％-3％。

8.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述烴基磺酸鹽類陰離子表面活性劑為碳原子數10的烴基磺酸鹽。

9.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述烴基磺酸鹽類陰離子表面活性劑為鉀鹽或者鈉鹽。

10.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述烴基磺酸鹽類陰離子表面活性劑包括甲基磺酸鹽、乙烯基磺酸鹽、烯丙基磺酸鹽、對甲基苯磺酸鹽、對乙基苯磺酸鹽、對丙基苯磺酸鹽中的一種或多種。

11.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述烴基磺酸鹽類陰離子表面活性劑的質量百分比含量為0.0005％-0.5％。

12.根據權利要求11所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述烴基磺酸鹽類陰離子表面活性劑的質量百分比含量為0.005％-0.1％。

13.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述腐蝕抑制劑的質量百分比含量為0.001％-5％。

14.根據權利要求13所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述腐蝕抑制劑的質量百分比含量為0.005％-1％。

15.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑為過氧化氫。

16.根據權利要求1所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑的質量百分比含量為0.05％-5％。

17.根據權利要求16所述化學機械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑的質量百分比含量為0.1％-3％。