[發明專利]一種抗蝕刻抗電鍍墨水組合物及其電路板

在審

• 申請號: 201811633687.7
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109852132A
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發明（設計）人: 王俊峰;龔慧明
• 申請（專利權）人: 深圳市容大感光科技股份有限公司
• 主分類號: C09D11/101
• 分類號: C09D11/101;C09D11/03;G03F7/004;G03F7/027
• 代理公司: 重慶弘旭專利代理有限責任公司 50209
• 代理人: 于保華

1.一種抗蝕刻抗電鍍的光固化墨水組合物，其特征在于所述光固化墨水組合物包含堿水可溶化合物，其中堿水可溶化合物占組合物的重量百分比含量為20-70%，堿水可溶化合物為同一分子中含有羧基和不飽和雙鍵的化合物，堿水可溶化合物的數均分子量小于等于700道爾頓，光固化墨水組合物中固化劑占光固化油墨組合物的重量百分比小于等于0.01%。

2.根據權利要求1所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述光固化墨水組合物中不含有固化劑。

3.根據權利要求1所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述光固化墨水組合物中還包含具有至少兩個雙鍵的化合物，堿水可溶化合物和具有至少兩個雙鍵的化合物的重量比為（1-10）：1，優選的，堿水可溶化合物和具有至少兩個雙鍵的化合物的重量比為4：1。

4.根據權利要求3所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述具有至少兩個雙鍵的化合物為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，所述堿水可溶化合物的數均分子量為200道爾頓至700道爾頓。

5.根據權利要求1所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述堿水可溶化合物述制備方法包括步驟：將分子中同時含有羥基和不飽和鍵的化合物與酸酐反應并控制數均分子量小于等于700道爾頓而得到。

6.根據權利要求5所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述含有羥基和不飽和鍵的化合物選自丙烯酸羥乙酯，甲基丙烯酸羥乙酯，丙烯酸羥丙酯，甲基丙烯酸羥丙酯，季戊四醇三丙烯酸酯中的一種或多種，所述酸酐選自酸酐為鄰苯二甲酸酐，順丁烯二酸酐，四氫苯酐，六氫苯酐，甲基四氫苯酐，甲基六氫苯酐，均苯四甲酸二酐中的一種或多種。

7.根據權利要求4所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述堿水可溶化合物和三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的重量之和占光固化墨水組合物總重量的百分比為70-80%，優選的，所述堿水可溶化合物和三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的重量之和占光固化墨水組合物總重量的百分比為75%。

8.根據權利要求1所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述光固化墨水組合物還包含異丙基硫雜蒽酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉-1-丙酮、納米滑石粉和表面張力控制劑，所述異丙基硫雜蒽酮占光固化墨水組合物的含量為0.5-1.5%，2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉-1-丙酮占光固化墨水組合物的含量為4-6%，納米滑石粉占光固化墨水組合物的含量為15-20%，表面張力控制劑占光固化墨水組合物的含量為0.5-1.5%。

9.根據權利要求1所述的光固化墨水組合物，其特征在于所述納米滑石粉最大粒徑小于5個微米，優選的，小于2個微米。

10.一種電路板，所述電路板由權利要求1-9任一項所述的抗蝕刻抗電鍍的光固化墨水組合物制備得到。