[發明專利]一種基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體

有效

• 申請號: 201811633556.9
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109545179B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: 劉桂強;李玉銀;劉正奇;張后交;施雷雷;唐鵬;吳彪;陳齊奇;杜國振
• 申請（專利權）人: 江西師范大學
• 主分類號: G10K11/162
• 分類號: G10K11/162;G10K11/168;G10K11/172
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 程華

1.一種基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體，其特征在于，超寬帶近完美光吸收體由下至上依次為第一金屬層、電介質層、第二金屬層、第一電介質光柵層、金屬光柵層以及第二電介質光柵層；所述第一金屬層、所述電介質層以及所述第二金屬層構成堆積結構；所述第一電介質光柵層、所述金屬光柵層以及所述第二電介質光柵層構成光柵結構；

所述基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體的制作方法包括：

采用磁控濺射儀在拋光的石英晶片上依次沉積第一金屬層、電介質層以及第二金屬層；

在所述第二金屬層上均勻的涂覆一層光刻膠；

采用電子束光刻的方法在所述第二金屬層上制備一維光刻膠條紋周期結構；

采用磁控濺射儀在所述一維光刻膠條紋周期結構上依次沉積第一電介質光柵層、金屬光柵層以及第二電介質光柵層；

采用Lift-off的方法去掉所述一維光刻膠條紋周期結構條紋上的電介質層和金屬層，保留所述一維光刻膠條紋周期結構條紋之間的電介質層和金屬層；

采用去膠液將第二金屬層上的所述一維光刻膠條紋周期結構除去，完成制作。

2.根據權利要求1所述的基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體，其特征在于，所述第一金屬層、所述第二金屬層以及所述金屬光柵層的材料為耐火材料。

3.根據權利要求1所述的基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體，其特征在于，所述第一金屬層的厚度大于或等于150nm，所述第二金屬層以及所述金屬光柵層厚度為10-60nm。

4.根據權利要求1所述的基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體，其特征在于，所述電介質層、所述第一電介質光柵層以及所述第二電介質光柵層的材料為介電材料。

5.根據權利要求1所述的基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體，其特征在于，所述電介質層、所述第一電介質光柵層以及所述第二電介質光柵層的厚度為60-220nm。

6.根據權利要求1所述的基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體，其特征在于，所述光柵結構的光柵狹縫寬度為20-220nm。

7.根據權利要求1所述的基于耐火材料的超寬帶近完美光吸收體，其特征在于，所述光柵結構的光柵周期為200-410nm。