[發明專利]一種真空吸附夾具在審
| 申請號: | 201811632113.8 | 申請日: | 2018-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN109483442A | 公開(公告)日: | 2019-03-19 |
| 發明(設計)人: | 李偉秋;顏炳姜 | 申請(專利權)人: | 匯專綠色工具有限公司;匯專科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | B25B11/00 | 分類號: | B25B11/00 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 黃華蓮;郝傳鑫 |
| 地址: | 510663 廣東省廣州市廣州高新技術產*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空吸附夾具 工件吸附 固定板 片狀工件 連通 密封腔 上表面 夾具 環形結構 環狀結構 上下表面 外側邊緣 整體吸附 火山口 抽氣孔 通氣槽 盲孔 圈印 上翹 吸附 治具 貫穿 | ||
本發明涉及一種夾具,具體公開了一種真空吸附夾具,包括其固定板和設于固定板上方的工件吸附塊,工件吸附塊的上表面用于吸附片狀工件;工件吸附塊的上表面靠近其外側邊緣的位置設有若干呈環狀結構布置的第一氣孔,第一氣孔為盲孔,位于若干第一氣孔所圍成的環形結構的內側設有若干貫穿于工件吸附塊上下表面的第二氣孔,第一氣孔與其相鄰的第二氣孔之間通過通氣槽連通;固定板的內部設有與第二氣孔連通的密封腔,固定板的外側設有與密封腔連通的抽氣孔。本發明的真空吸附夾具可以使得片狀工件整體吸附力均勻,避免產生火山口、圈印和治具印,還可防止片狀工件的邊緣上翹,確保真空吸附夾具邊緣的剛性。
技術領域
本發明涉及一種夾具,特別是涉及一種真空吸附夾具。
背景技術
手機、平板等電子設備的加工制造工藝對精度要求極高,在對電子設備的屏幕或者后蓋等薄片狀部件進行加工時,需要先將待加工的片狀工件進行固定,然后再對其進行精細加工,夾具的選取會對片狀工件的加工品質產生較大影響。為確保加工過程中片狀工件的持續固定,同時能夠適應片狀工件的形狀和材質屬性特點,工業上通常會使用真空吸附夾具來固定待加工的片狀工件,目前,真空吸附夾具一般有如下三種類型:
第一種,參見圖1所示,夾具的頂部設有多圈環形槽100,環形槽100與夾具上的氣腔連通,待加工的片狀工件放置于夾具的頂部,然后通過氣管將氣腔與真空泵連通,真空泵啟動使氣腔內形成負壓,從而將片狀工件吸附于夾具的頂部,達到固定片狀工件的目的。但是,使用這種夾具時,一方面片狀工件與夾具接觸的一面容易產生嚴重的環形治具印,另一方面由于吸附力集中作用于片狀工件對應于環形槽的位置,其四周的吸附力較低,使得片狀工件受力不均勻,在片狀工件的另一面靠近成型攝像頭安裝孔的位置會出現火山口以及圈印,由此嚴重影響片狀工件的品質。
第二種,參見圖2所示,夾具的頂部設有凹陷部200,并在凹陷部200內形成若干均勻分布的支撐柱210,凹陷部200與支撐柱210形成氣道并與氣腔連通,待加工的片狀工件放置于支撐柱210上,真空泵啟動使得氣腔形成負壓,從而固定片狀工件。使用這種夾具時,一方面片狀工件與支撐柱210接觸的一面容易產生嚴重的治具印,另一方面由于吸附力集中作用于片狀工件對應于支撐柱210之間凹陷部的位置,而對應于支撐柱210的吸附力較低,使得片狀工件受力不均勻,在片狀工件的另一面靠近成型攝像頭安裝孔的位置出現火山口和圈印。
第三種,參見圖3所示,夾具的頂部開設有田字形凹槽300,田字形凹槽300與氣腔連通,真空泵啟動使得氣腔內形成負壓,從而固定待加工的片狀工件。類似地,使用這種夾具時,一方面片狀工件與夾具接觸的一面容易產生嚴重的田字形治具印,另一方面片狀工件受到的吸附力主要集中于與田字形凹槽300對應的位置,其四周的吸附力較低,導致片狀工件受力不均勻,在片狀工件的另一面靠近成型攝像頭安裝孔的位置會出現火山口以及圈印,由此嚴重影響片狀工件的品質。
發明內容
為了解決上述背景技術中的問題,本發明的目的是提供一種真空吸附夾具,以使得片狀工件整體吸附力均勻,避免產生火山口、圈印和治具印。
基于此,本發明提供了一種真空吸附夾具,包括固定板和設于所述固定板上方的工件吸附塊,所述工件吸附塊的上表面用于吸附片狀工件;所述工件吸附塊的上表面靠近其外側邊緣的位置設有若干呈環狀結構布置的第一氣孔,所述第一氣孔為盲孔,位于若干所述第一氣孔所圍成的環形結構的內側設有若干貫穿于所述工件吸附塊上下表面的第二氣孔,所述第一氣孔與其相鄰的所述第二氣孔之間通過通氣槽連通;
所述固定板的內部設有與所述第二氣孔連通的密封腔,所述固定板的外側設有與所述密封腔連通的抽氣孔。
作為優選方案,所述第一氣孔和所述第二氣孔呈陣列排布,所述第一氣孔與其相鄰且相對設置的所述第二氣孔通過所述通氣槽連通。
作為優選方案,所述通氣槽的開口方向朝上。
作為優選方案,所述工件吸附塊的外側邊緣輪廓為長方形。
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