[發(fā)明專利]一種微型聚光太陽能電池及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811631705.8 | 申請日: | 2018-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN111403506A | 公開(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王嵐 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/048;H01L31/052;H01L31/054;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 李靜 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微型 聚光 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種微型聚光太陽能電池,其特征在于,包括:
襯底;
太陽能微電池單元,包括依次設置的背電極、吸收層、緩沖層、窗口層和透明絕緣層;其中所述太陽能微電池單元設置于所述襯底上;
聚光透鏡,設置于所述太陽能微電池單元吸收光線的一側,與所述太陽能微電池單元對應設置。
2.根據(jù)權利要求1所述的微型聚光太陽能電池,其特征在于,所述襯底包括:金屬導熱基板,和設置在金屬導熱基板上的玻璃襯底;所述背電極設置在玻璃襯底上;
可選地,所述背電極之間的間距為1-2mm,所述背電極為沉積在玻璃襯底上的一層Mo,厚度為500-1000nm。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的微型聚光太陽能電池,其特征在于,所述吸收層為CIGS吸收層,設置于所述背電極上,所述CIGS吸收層的厚度為2-3μm;
可選地,所述緩沖層為n型緩沖層;所述緩沖層的厚度為30-50nm。
4.根據(jù)權利要求1-3任一所述的微型聚光太陽能電池,其特征在于,所述窗口層包括透明高阻層和透明導電層;所述透明高阻層的材料為本征氧化鋅和氧化鋁;所述透明導電層的材料為摻鋁氧化鋅、摻錫氧化銦、摻銻氧化錫中的一種;所述窗口層厚度為500-1000nm;
可選地,所述透明絕緣層設置在襯底、太陽能微電池單元及聚光透鏡的間隙,所述透明絕緣層為透明電絕緣材料,用于支撐所述聚光透鏡,并將所述聚光透鏡與所述太陽能微電池單元進行絕緣隔離。
5.根據(jù)權利要求1-4任一項所述的微型聚光太陽能電池,其特征在于,所述聚光透鏡的直徑大于等于所述太陽能微電池單元之間的間距;所述聚光透鏡的直徑為1.8-2.2mm,折射率為1.5-2.5。
6.根據(jù)權利要求1-5任一項所述的微型聚光太陽能電池,其特征在于,所述微型聚光太陽能電池包括多個太陽能微電池單元,多個太陽能微電池單元設置為矩形陣列,
可選地,所述太陽能微電池單元的寬度為50-100μm。
7.一種如權利要求1-6任一項所述的微型聚光太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1,在襯底上制備太陽能微電池單元,在所述太陽能微電池單元的背電極上設置電流柵線;
S2,在所述太陽能微電池單元上設置聚光透鏡。
8.根據(jù)權利要求7所述的制備方法,其特征在于,S1中在襯底上制備太陽能微電池單元的步驟為:在襯底上形成背電極;在所述背電極上依次設置吸收層、緩沖層、窗口層和透明絕緣層。
9.根據(jù)權利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述吸收層采用選擇性沉積法沉積在所述背電極上;
所述選擇性沉積法為帶有掩模板的PVD法、電沉積法或打印法。
10.根據(jù)權利要求9所述的制備方法,其特征在于,所述吸收層的沉積方法為在背電極上沉積銦顆粒,在銦顆粒上依次沉積銅和鎵,然后硒化處理,即得所述吸收層;
所述銦顆粒粒徑為50-100μm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





