[發明專利]一種化學機械拋光液有效
| 申請號： | 201811627140.6 | 申請日： | 2018-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN111378374B | 公開（公告）日： | 2022-05-13 |
| 發明（設計）人： | 王晨;何華鋒;李星 | 申請（專利權）人： | 安集微電子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律師事務所 11352 | 代理人： | 李佳銘;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦東新區華東路*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械拋光液在抑制含鎢晶圓表面的碟形凹陷的用途，所述化學機械
拋光液包括二氧化硅研磨顆粒、硝酸鐵、氧化劑、有機酸、聚乙二醇和接枝共聚的聚乙烯亞胺，其中，所述二氧化硅研磨顆粒表面帶正電；所述接枝共聚的聚乙烯亞胺的分子量為800-2000000；所述接枝共聚的聚乙烯亞胺的質量百分比含量為0.002%-0.02%；所述二氧化硅研磨顆粒的質量百分比含量為1%-10%；所述有機酸包括丙二酸、丁二酸、酒石酸、草酸和檸檬酸中的一種或多種；所述有機酸的質量百分比含量為0.04%-0.4%；所述化學機械拋光液的pH值為2.0-2.5。
2.根據權利要求1所述的用途，其特征在于，
所述聚乙二醇的分子量為400-600。
3.根據權利要求1所述的用途，其特征在于，
所述聚乙二醇的質量百分比含量為0.5%-3%。
4.根據權利要求1所述的用途，其特征在于，
所述硝酸鐵的質量百分比含量為0.02%-0.2%。
5.根據權利要求1所述的用途，其特征在于，
所述二氧化硅研磨顆粒為硅烷偶聯劑表面改性處理的二氧化硅。
6.根據權利要求5所述的用途，其特征在于，
所述硅烷偶聯劑為氨丙基三乙氧基硅烷。
7.根據權利要求1所述的用途，其特征在于，
所述氧化劑為雙氧水。
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