[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811625477.3
• 申請日: 2018-12-28
• 公開（公告）號: CN109742102B
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發(fā)明（設計）人: 唐甲;任章淳
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一襯底，在所述襯底上依次形成有源層、第一絕緣層及第一金屬層；

在所述第一金屬層上形成第一光阻層，對所述第一光阻層進行第一光罩工藝；

對所述有源層、所述第一絕緣層及所述第一金屬層進行第一次蝕刻工藝；

對所述第一光阻層進行灰化處理；

對所述第一金屬層進行第二蝕刻工藝，使得所述第一金屬層形成第一柵極和第二柵極；

在所述第一柵極及所述第二柵極上形成源漏極；

對所述有源層、所述第一絕緣層及所述第一金屬層進行第一次蝕刻工藝的步驟包括：

對所述第一金屬層進行第一濕法蝕刻工藝，圖案化處理后的所述第一金屬層包括第一金屬區(qū)和第二金屬區(qū)；

對所述第一絕緣層進行第一干法蝕刻工藝，圖案化處理后的所述第一絕緣層包括第一絕緣區(qū)和第二絕緣區(qū)；

對所述有源層進行第二濕法蝕刻工藝，圖案化處理后的所述有源層包括第一有源區(qū)和第二有源區(qū)；

所述第一有源區(qū)、第一金屬區(qū)及所述第一絕緣區(qū)與第一光阻區(qū)對應；

所述第二有源區(qū)、第二金屬區(qū)及所述第二絕緣區(qū)與第二光阻區(qū)對應；

在所述第一金屬層上形成第一光阻層，對所述第一光阻層進行第一光罩工藝的步驟包括：

在所述第一金屬層上形成所述第一光阻層；

利用一多段式掩膜版，對所述第一光阻層曝光及顯影處理；

其中，圖案化處理后的所述第一光阻層包括第一光阻區(qū)和第二光阻區(qū)，所述第一光阻區(qū)包括第一光阻子區(qū)域和第二光阻子區(qū)域，所述第二光阻區(qū)包括第三光阻子區(qū)域和第四光阻子區(qū)域，

第一光阻子區(qū)域、第二光阻子區(qū)域、第三光阻子區(qū)域、及第四光阻子區(qū)域的厚度不相同；

對所述第一金屬層進行第二蝕刻工藝，使得所述第一金屬層形成第一柵極和第二柵極的步驟包括：

利用第三濕法蝕刻工藝去除第一金屬區(qū)內(nèi)未被光阻所覆蓋的所述第一金屬層以形成所述第一柵極、以及去除第二金屬區(qū)內(nèi)未被光阻所覆蓋的所述第一金屬層以形成所述第二柵極；

利用第二干法蝕刻工藝去除第一絕緣區(qū)內(nèi)未被光阻所覆蓋的所述第一絕緣層以形成第一柵絕緣層、以及去除第二絕緣區(qū)內(nèi)未被光阻所覆蓋的所述第一絕緣層以形成第二柵絕緣層；

所述第一柵極及所述第一柵絕緣層位于第一有源區(qū)上；

所述第二柵極及所述第二柵絕緣層位于第二有源區(qū)上；

在所述第一柵極及所述第二柵極上形成源漏極的步驟包括：

在所述第一柵極及所述第二柵極上形成第二絕緣層；

在所述第二絕緣層上形成第一過孔和第二過孔；

在所述第二絕緣層上形成第二金屬層；

對所述第二金屬層使用第三蝕刻工藝，使所述第二金屬層形成第一源漏極和第二源漏極；

所述第一過孔位于第二光阻子區(qū)域所對應的所述第二絕緣層上，所述第二過孔位于第四光阻子區(qū)域所對應的所述第二絕緣層上；

所述第一源漏極通過所述第一過孔與第一有源區(qū)電連接；

所述第二源漏極通過所述第二過孔與第二有源區(qū)電連接；

其中，所述第二源漏極、所述第二柵極以及所述第二有源區(qū)形成所述顯示面板的存儲電容。

2.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述第一光阻區(qū)包括一所述第一光阻子區(qū)域和兩所述第二光阻子區(qū)域，所述第二光阻子區(qū)域位于所述第一光阻子區(qū)域的兩側；

所述第二光阻區(qū)包括一所述第三光阻子區(qū)域和一所述第四光阻子區(qū)域，所述第三光阻子區(qū)域位于所述第四光阻子區(qū)域的一側。

3.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述第一光阻子區(qū)域的厚度大于所述第二光阻子區(qū)域的厚度；

所述第三光阻子區(qū)域的厚度大于所述第四光阻子區(qū)域的厚度。

4.根據(jù)權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，對所述第一光阻層進行灰化處理的步驟包括：

使用等離子體對第一光阻區(qū)及第二光阻區(qū)內(nèi)的光阻進行灰化處理，去除第二光阻子區(qū)域和第四光阻子區(qū)域內(nèi)的光阻，并使第一光阻子區(qū)域和第三光阻子區(qū)域內(nèi)光阻的厚度減薄。

5.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板采用如權利要求1～4任一項所述的顯示面板的制作方法制成。