[發(fā)明專利]一種具有寫狀態(tài)檢測(cè)單元的MRAM存儲(chǔ)器件在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811624645.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111383691A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 戴瑾;郭一民 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海磁宇信息科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G11C16/10 | 分類號(hào): | G11C16/10;G11C16/30;G11C16/24 |
| 代理公司: | 上海容慧專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31287 | 代理人: | 于曉菁 |
| 地址: | 201800 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 狀態(tài) 檢測(cè) 單元 mram 存儲(chǔ) 器件 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種具有寫狀態(tài)檢測(cè)單元的MRAM存儲(chǔ)器件,所述MRAM存儲(chǔ)器件包括MRAM存儲(chǔ)單元、寫狀態(tài)檢測(cè)單元,所述MRAM存儲(chǔ)單元至少包括第一和第二磁性隧道結(jié)以及耦合到第一和第二磁性隧道結(jié)的MOS管,其中第一和第二磁性隧道結(jié)中的一個(gè)具有相對(duì)于讀取和寫入的電流路徑的參考和記憶層的正常順序,另一個(gè)磁性隧道結(jié)具有相對(duì)于讀取和寫入的電流路徑的參考層和記憶層的相反順序;所述第一和第二磁性隧道結(jié)一端分別與第一位線和第二位線相連,另一端連接MOS管;所述寫狀態(tài)檢測(cè)單元包括檢測(cè)點(diǎn)、比較器,所述寫狀態(tài)檢測(cè)單元適用于檢測(cè)MRAM存儲(chǔ)單元的狀態(tài)轉(zhuǎn)換,并根據(jù)檢測(cè)結(jié)果提前終止寫操作。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域,其最重要的應(yīng)用在于對(duì)待機(jī)功耗要求很嚴(yán)格的物聯(lián)網(wǎng)和可穿戴電子設(shè)備等領(lǐng)域,尤其涉及一種具有寫狀態(tài)檢測(cè)單元的MRAM存儲(chǔ)器件。
背景技術(shù)
本發(fā)明的背景是MRAM制造技術(shù)已經(jīng)成熟,近年來(lái)人們利用磁性隧道結(jié)(MTJ,Magnetic Tunnel Junction)的磁電阻效應(yīng)做成磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器,即為MRAM(MagneticRandom Access Memory),MRAM是一種非易失性磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器,相比于現(xiàn)有的存儲(chǔ)器,它的優(yōu)勢(shì)包括(1)它擁有靜態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器(SRAM)的高速讀取寫入能力,以及動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器(DRAM)的高集成度,而且還可以像Flash閃存一樣在斷電后永久保留數(shù)據(jù)。(2)它的性能相當(dāng)好,讀寫時(shí)延接近SRAM,功耗則比閃存低得多。(3)它的經(jīng)濟(jì)性非常好,單位容量占用的硅片面積非常小,比SRAM有很大的優(yōu)勢(shì);其制造工藝中需要的附加光罩?jǐn)?shù)量較少,比嵌入式NOR Flash的成本優(yōu)勢(shì)更大。(4)MRAM不像DRAM以及Flash那樣與標(biāo)準(zhǔn)CMOS半導(dǎo)體工藝不兼容,MRAM可以和邏輯電路集成到一個(gè)芯片中。
目前接近量產(chǎn)的各個(gè)廠家的MRAM技術(shù),雖然讀寫功耗都比閃存低很多,但寫入功耗仍然比較大,寫電流偏高,如果取代DRAM或者SRAM還不太理想。特別是,現(xiàn)在的寫入技術(shù),能量的浪費(fèi)非常之大:
1.如果需要在某個(gè)比特寫1,該比特有一半的可能性已經(jīng)是一個(gè)1,不需要再耗費(fèi)能量了。然而寫電路無(wú)法知道該比特之前的狀態(tài),所以無(wú)論之前的狀態(tài)是1還是0,一個(gè)常見(jiàn)的作法是作一次寫操作。在統(tǒng)計(jì)學(xué)的意義上,一半的能量就這樣浪費(fèi)了。
2.寫入操作是給一個(gè)比特施加一個(gè)電脈沖,脈沖必須維持一個(gè)特定的長(zhǎng)度,才能把錯(cuò)誤率控制在可接受的范圍內(nèi)。例如對(duì)于實(shí)際中的一個(gè)1兆比特陣列,寫脈沖的長(zhǎng)度可能需要30納秒才能把錯(cuò)誤率控制在百萬(wàn)分之一以內(nèi),但其實(shí)在10納秒的時(shí)間內(nèi),超過(guò)90%的比特已經(jīng)完成了寫操作。但隨機(jī)地,可能有百萬(wàn)分之一的比特需要30納秒才能完成寫操作,寫電路并不知道每一個(gè)比特需要的寫入時(shí)間,只能把脈沖時(shí)間延長(zhǎng)到最保守情況。這樣,即使對(duì)于需要進(jìn)行寫操作的絕大部分比特,2/3甚至更多的能量是浪費(fèi)的。
為了減少寫入能量浪費(fèi),業(yè)界已經(jīng)開(kāi)始研究寫入狀態(tài)檢測(cè)電路,能夠在進(jìn)行寫操作的同時(shí)檢測(cè)被寫入比特的狀態(tài),一旦檢測(cè)到該比特的狀態(tài)已經(jīng)到達(dá)目標(biāo)值,立即終止寫操作。這樣的寫入狀態(tài)檢測(cè)電路,能夠大幅度降低寫功耗。美國(guó)專利US20180061466有提出如下技術(shù):
1.在MRAM中增加一個(gè)寫狀態(tài)檢測(cè)電路,當(dāng)檢測(cè)到被寫入的比特已經(jīng)達(dá)到目標(biāo)狀態(tài)時(shí),提前終止寫操作。
2.需要一個(gè)參考單元,具有一個(gè)參考電阻。
3.寫檢測(cè)電路,通過(guò)比較被寫入單元的電阻和參考電阻,決定它當(dāng)時(shí)的狀態(tài)。
4.具體的實(shí)施方法,是給參考單元施加被寫入單元同樣的電壓,比較寫入回路上相同的一個(gè)點(diǎn)的電位。被寫入單元的電阻不同,必然導(dǎo)致電路分壓不同,造成被檢測(cè)點(diǎn)上電位的變化。
該美國(guó)專利的寫狀態(tài)檢測(cè)電路是針對(duì)最基本的MRAM存儲(chǔ)單元即由1個(gè)MTJ與1個(gè)MOS管組成的MRAM單元(以下簡(jiǎn)稱為1T1M的MRAM存儲(chǔ)單元),而對(duì)于2個(gè)MTJ與2個(gè)MOS管相連的MRAM單元(以下簡(jiǎn)稱為2T2M的MRAM存儲(chǔ)單元)如何做寫狀態(tài)檢測(cè),仍然是一個(gè)未解決的問(wèn)題。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海磁宇信息科技有限公司,未經(jīng)上海磁宇信息科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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