[發(fā)明專(zhuān)利]一種藍(lán)寶石襯底片成品清洗工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811619077.1 | 申請(qǐng)日： | 2018-12-28 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN109821810A | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-05-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 丁云海;張京偉;余勝軍;盧東陽(yáng) | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 江蘇澳洋順昌集成電路股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | B08B3/08 | 分類(lèi)號(hào)： | B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;H01L21/02 |
| 代理公司： | 大連理工大學(xué)專(zhuān)利中心 21200 | 代理人： | 溫福雪 |
| 地址： | 223001*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 藍(lán)寶石襯底晶片 清洗 藍(lán)寶石 清洗工藝 襯底片 拋光液 清洗劑 表面清洗 晶片背面 晶片表面 晶片加工 清洗能力 清洗效果 生產(chǎn)效率 數(shù)量控制 同一位置 行業(yè)要求 一次清洗 超聲波 清洗液 拋光 氧化鋁 晶片 臟污 制作 生產(chǎn) | ||
1.一種藍(lán)寶石襯底片成品清洗工藝，其特征在于，步驟如下：
(1)將氧化鋁拋光后的藍(lán)寶石襯底晶片浸泡于體積濃度比為10％-25％、加熱至60℃-85℃的環(huán)保去蠟液中，超聲清洗20-30分鐘，并同時(shí)上下拋動(dòng)；
(2)在室溫下，將步驟(1)處理后的藍(lán)寶石襯底晶片去離子水中，超聲漂洗5-10分鐘；
(3)將步驟(2)處理后的藍(lán)寶石襯底晶片浸泡于體積濃度比為15％-20％、加熱至60℃-80℃水基環(huán)保清洗劑中，超聲清洗20-30分鐘，并同時(shí)上下拋動(dòng)；
(4)在室溫下，將步驟(3)處理后的藍(lán)寶石襯底晶片浸泡于去離子中，超聲清洗5-15分鐘，并同時(shí)上下拋動(dòng)；
(5)在室溫下，將步驟(4)處理后的藍(lán)寶石襯底晶片進(jìn)行QDR清洗后，送至酸洗工序；
(6)將步驟(5)處理后的藍(lán)寶石襯底晶片浸泡于溫度為120℃，體積比為硫酸：雙氧水：去離子水＝5:1:1的酸液中，硫酸的體積百分比濃度為85％，上下拋動(dòng)清洗15-20分鐘；
(7)在室溫下，將步驟(6)處理后的藍(lán)寶石襯底晶片QDR清洗后送至刷洗工序；
(8)使用單面刷洗機(jī)臺(tái)進(jìn)行藍(lán)寶石襯底晶片刷洗，完成藍(lán)寶石襯底片的清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石襯底片成品清洗工藝，其特征在于，所有涉及去離子水的清洗步驟中，均采用超純水電阻率≥15MΩ·CM的去離子水。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的藍(lán)寶石襯底片成品清洗工藝，其特征在于，所有涉及拋動(dòng)的清洗步驟中，均采用拋動(dòng)頻率為10-30次/分鐘。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于江蘇澳洋順昌集成電路股份有限公司，未經(jīng)江蘇澳洋順昌集成電路股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811619077.1/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
