[發(fā)明專利]發(fā)散角連續(xù)可調(diào)的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)及其標(biāo)定方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811618906.4
• 申請(qǐng)日: 2018-12-27
• 公開（公告）號(hào): CN109671513B
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳東風(fēng);李玉慶;孫凱;劉蘊(yùn)韜;韓松柏;焦學(xué)勝;王洪立;李眉娟;賀林峰;劉曉龍;郝麗杰;武梅梅;魏國海;韓文澤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國原子能科學(xué)研究院
• 主分類號(hào): G21K1/02
• 分類號(hào): G21K1/02;G01T7/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 任巖

1.一種發(fā)散角連續(xù)可調(diào)的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

若干片中子吸收層(2)平行設(shè)置，每片中子吸收層(2)的上、下方均固定有調(diào)整柱(3)；

調(diào)整滑塊(4)，為一中空框結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述若干片中子吸收層(2)外部；其中，該調(diào)整滑塊(4)的上、下表面均設(shè)置有與所述中子吸收層(2)對(duì)應(yīng)數(shù)量的調(diào)整槽(5)，各個(gè)調(diào)整槽(5)之間的間距沿著中子吸收層平行設(shè)置的方向呈漸變分布，所述中子吸收層(2)的調(diào)整柱(3)伸入所述調(diào)整槽(5)內(nèi)；以及

驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，用于驅(qū)動(dòng)該調(diào)整滑塊(4)沿著中子吸收層(2)平行設(shè)置的方向進(jìn)行移動(dòng)，以改變調(diào)整柱(3)在調(diào)整槽(5)中所處的位置使中子吸收層(2)的間距發(fā)生變化，從而實(shí)現(xiàn)中子發(fā)散角的連續(xù)調(diào)節(jié)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，

所述調(diào)整滑塊(4)安裝于滑軌(6)上，可沿著所述滑軌(6)進(jìn)行移動(dòng)；

所述調(diào)整滑塊(4)與一帶正反向螺紋絲杠(7)連接，在驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)的作用下，所述調(diào)整滑塊(4)在所述帶正反向螺紋絲杠(7)上移動(dòng)來實(shí)現(xiàn)沿著滑軌(6)的移動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，

所述滑軌(6)固定于固定支架(8)上；

所述帶正反向螺紋絲杠(7)固定于固定支架(8)上；

每片所述中子吸收層(2)安裝于中子吸收層邊框(1)上，每個(gè)中子吸收層邊框(1)的上、下方均固定設(shè)置有調(diào)整柱(3)，所述中子吸收層邊框(1)與所述固定支架(8)相連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括：

定位結(jié)構(gòu)，用于所述調(diào)整滑塊(4)的定位。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括：

定位結(jié)構(gòu)，用于所述調(diào)整滑塊(4)的定位；所述定位結(jié)構(gòu)為絕對(duì)編碼器，該絕對(duì)編碼器安裝于所述固定支架(8)上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括：

運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，通過控制所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)對(duì)所述調(diào)整滑塊(4)的移動(dòng)控制；以及

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，用于采集數(shù)據(jù)，該數(shù)據(jù)包括中子發(fā)散角信息和所述調(diào)整滑塊(4)的位置信息。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)為伺服電機(jī)，該伺服電機(jī)安裝于所述固定支架(8)上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述調(diào)整滑塊(4)的個(gè)數(shù)為2，兩個(gè)調(diào)整滑塊(4)相對(duì)設(shè)置，且兩個(gè)調(diào)整滑塊(4)上的調(diào)整槽(5)分布沿著中子吸收層(2)法線的方向軸對(duì)稱分布。

9.一種發(fā)散角的標(biāo)定方法，用于標(biāo)定權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

將所述調(diào)整滑塊(4)移動(dòng)至某一位置，并記錄下所述調(diào)整滑塊(4)的位置和對(duì)應(yīng)的中子發(fā)散角；以及

通過獲取所述調(diào)整滑塊(4)處于不同位置對(duì)應(yīng)的中子發(fā)散角，得到該中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)的發(fā)散角與調(diào)整滑塊(4)位置的對(duì)應(yīng)關(guān)系曲線，實(shí)現(xiàn)標(biāo)定。

10.一種發(fā)散角的標(biāo)定方法，用于標(biāo)定權(quán)利要求4或5所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

將所述調(diào)整滑塊(4)移動(dòng)至某一位置，并記錄下所述調(diào)整滑塊(4)的位置和對(duì)應(yīng)的中子發(fā)散角；以及

通過獲取所述調(diào)整滑塊(4)處于不同位置對(duì)應(yīng)的中子發(fā)散角，得到該中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)的發(fā)散角與調(diào)整滑塊(4)位置的對(duì)應(yīng)關(guān)系曲線，實(shí)現(xiàn)標(biāo)定；

其中，通過所述定位結(jié)構(gòu)確定所述調(diào)整滑塊(4)的位置。

11.一種發(fā)散角的標(biāo)定方法，用于標(biāo)定權(quán)利要求6所述的中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

將所述調(diào)整滑塊(4)移動(dòng)至某一位置，并記錄下所述調(diào)整滑塊(4)的位置和對(duì)應(yīng)的中子發(fā)散角；以及

通過獲取所述調(diào)整滑塊(4)處于不同位置對(duì)應(yīng)的中子發(fā)散角，得到該中子準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)的發(fā)散角與調(diào)整滑塊(4)位置的對(duì)應(yīng)關(guān)系曲線，實(shí)現(xiàn)標(biāo)定；

其中，通過所述數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)記錄所述調(diào)整滑塊(4)的位置和對(duì)應(yīng)的中子發(fā)散角；

通過所述運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)控制所述調(diào)整滑塊(4)移動(dòng)至不同位置。