[發(fā)明專利]井眼軌跡的確定方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811617832.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111379548B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊沛;陳龍;何仁清;張楊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)石油天然氣股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | E21B43/30 | 分類號(hào): | E21B43/30 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 吳會(huì)英;黃健 |
| 地址: | 100007 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 軌跡 確定 方法 裝置 設(shè)備 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種井眼軌跡的確定方法,其特征在于,包括:
獲取目標(biāo)區(qū)塊的地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布;
根據(jù)所述地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布對(duì)當(dāng)前靶區(qū)內(nèi)第一靶點(diǎn)坐標(biāo)進(jìn)行調(diào)整,得到第二靶點(diǎn)坐標(biāo);
根據(jù)所述地應(yīng)力分布得到所述目標(biāo)區(qū)塊的平面地應(yīng)力差分布,所述平面地應(yīng)力差為所述地應(yīng)力分布中水平最大主應(yīng)力與水平最小主應(yīng)力之間的差值;
根據(jù)所述平面地應(yīng)力差分布和靶前位移確定井口位置;
選取造斜點(diǎn),并確定造斜點(diǎn)以下各個(gè)層段的井眼軌跡參數(shù),所述造斜點(diǎn)根據(jù)層段深度點(diǎn)的平均楊氏模量和厚度來(lái)確定;
根據(jù)所述第二靶點(diǎn)坐標(biāo)、所述井口位置、所述造斜點(diǎn)以及所述各個(gè)層段的井眼軌跡參數(shù),確定井眼軌跡結(jié)果;
所述根據(jù)所述地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布對(duì)當(dāng)前靶區(qū)內(nèi)第一靶點(diǎn)坐標(biāo)進(jìn)行調(diào)整,得到第二靶點(diǎn)坐標(biāo),具體包括:
在所述靶區(qū)內(nèi)選取所述地應(yīng)力分布中水平最小主應(yīng)力值小于等于第一預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn),且所述可壓裂性指數(shù)分布中可壓裂性指數(shù)值大于等于第二預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)的坐標(biāo)點(diǎn);
將所述坐標(biāo)點(diǎn)作為第二靶點(diǎn)坐標(biāo);
所述根據(jù)所述平面地應(yīng)力差分布和靶前位移確定井口位置,具體包括:
選取所述平面地應(yīng)力差分布中平面地應(yīng)力差值小于等于第三預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)的第一位置;
將距離所述第一位置為所述靶前位移的第二位置,確定為井口位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取目標(biāo)區(qū)塊的地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布,具體包括:
根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)塊內(nèi)已鉆單井的測(cè)井資料計(jì)算得到所述單井附近的地應(yīng)力大小和可壓裂性指數(shù);
根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)塊的地震資料與所述地應(yīng)力大小和可壓裂性指數(shù),得到所述目標(biāo)區(qū)塊的地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述井眼軌跡參數(shù)包括井深、井斜角和井斜方位角。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述選取造斜點(diǎn),并確定造斜點(diǎn)以下各個(gè)層段的井眼軌跡參數(shù),具體包括:
選取平均楊氏模量大于預(yù)設(shè)模量閾值且厚度大于預(yù)設(shè)厚度閾值的層段中的深度點(diǎn)作為造斜點(diǎn);
根據(jù)地質(zhì)分層計(jì)算所述造斜點(diǎn)以下各個(gè)層段的不同井斜角下的坍塌壓力;
選取坍塌壓力小于等于第四預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)的井斜角以及相應(yīng)的井深和井斜方位角,作為各個(gè)層段的井眼軌跡參數(shù)。
5.一種井眼軌跡的確定裝置,其特征在于,包括:
第一獲取模塊,用于獲取目標(biāo)區(qū)塊的地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布;
靶點(diǎn)調(diào)整模塊,用于根據(jù)所述地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布對(duì)當(dāng)前靶區(qū)內(nèi)第一靶點(diǎn)坐標(biāo)進(jìn)行調(diào)整,得到第二靶點(diǎn)坐標(biāo);
第二獲取模塊,用于根據(jù)所述地應(yīng)力分布得到所述目標(biāo)區(qū)塊的平面地應(yīng)力差分布,所述平面地應(yīng)力差為所述地應(yīng)力分布中水平最大主應(yīng)力與水平最小主應(yīng)力之間的差值;
井口確定模塊,用于根據(jù)所述平面地應(yīng)力差分布和靶前位移確定井口位置;
參數(shù)確定模塊,用于選取造斜點(diǎn),并確定造斜點(diǎn)以下各個(gè)層段的井眼軌跡參數(shù),所述造斜點(diǎn)根據(jù)層段深度點(diǎn)的平均楊氏模量和厚度來(lái)確定;
軌跡確定模塊,用于根據(jù)所述第二靶點(diǎn)坐標(biāo)、所述井口位置、所述造斜點(diǎn)以及所述各個(gè)層段的井眼軌跡參數(shù),確定井眼軌跡結(jié)果;
所述靶點(diǎn)調(diào)整模塊,還具體用于在所述靶區(qū)內(nèi)選取所述地應(yīng)力分布中水平最小主應(yīng)力值小于等于第一預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn),且所述可壓裂性指數(shù)分布中可壓裂性指數(shù)值大于等于第二預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)的坐標(biāo)點(diǎn);將所述坐標(biāo)點(diǎn)作為第二靶點(diǎn)坐標(biāo);
所述井口確定模塊,還具體用于選取所述平面地應(yīng)力差分布中平面地應(yīng)力差值小于等于第三預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)的第一位置;將距離所述第一位置為所述靶前位移的第二位置,確定為井口位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述第一獲取模塊,具體用于根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)塊內(nèi)已鉆單井的測(cè)井資料計(jì)算得到所述單井附近的地應(yīng)力大小和可壓裂性指數(shù);根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)塊的地震資料與所述地應(yīng)力大小和可壓裂性指數(shù),得到所述目標(biāo)區(qū)塊的地應(yīng)力分布和可壓裂性指數(shù)分布。
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