[發(fā)明專利]二維掃描變?nèi)莨苡性闯砻鎺Э捉橘|(zhì)透鏡天線

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811616363.2
• 申請日: 2018-12-28
• 公開（公告）號: CN109728446B
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳錫東;戴少鵬;周金芳
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江大學(xué)
• 主分類號: H01Q23/00
• 分類號: H01Q23/00;H01Q15/00;H01Q15/08;H01Q13/02;H01Q1/52
• 代理公司: 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200
• 代理人: 劉靜;邱啟旺

1.一種二維掃描變?nèi)莨苡性闯砻鎺Э捉橘|(zhì)透鏡天線，其特征在于，包括聚焦透鏡、二維掃描陣列、墊片、支撐柱、喇叭天線和底座；所述聚焦透鏡為帶孔介質(zhì)透鏡，所述二維掃描陣列為超表面；所述二維掃描陣列、聚焦透鏡、支撐柱均通過墊片依次連接，所述支撐柱固定在底座上，所述喇叭天線固定在底座上，所述喇叭天線的喇叭口朝向聚焦透鏡；所述二維掃描陣列由兩個一維掃描陣列：x方向掃描陣列和y方向掃描陣列在z方向疊加而成，y方向作為入射波極化方向，z方向作為透鏡對稱軸方向；所述聚焦透鏡為等厚度的均勻介質(zhì)，介質(zhì)內(nèi)分布直徑不一的z方向通孔，將介質(zhì)視為行距和列距相等的xy平面網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，任意通孔的對稱軸位于網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的交點處；調(diào)整聚焦透鏡通孔的孔徑，通孔周圍透射波的相移隨之改變，使得每個通孔能夠補償該位置的待補償相移；

所述一維掃描陣列采用變?nèi)莨苡性闯砻妫浒ㄖ芷谛耘挪嫉慕饘賵D案單元，每個金屬圖案單元為外環(huán)嵌套內(nèi)貼片，外環(huán)與內(nèi)貼片之間通過兩個方向相反的變?nèi)荻O管相連；

所述x方向掃描陣列沿y方向相鄰的兩個金屬圖案單元之間接有電阻，y方向作為列方向，偏置線加載在每一列的其中一個金屬圖案單元上；所述y方向掃描陣列沿x方向相鄰的兩個金屬圖案單元之間接有微帶，x方向作為行方向，偏置線加載在每一行的其中一個金屬圖案單元上。

2.如權(quán)利要求1所述的一種二維掃描變?nèi)莨苡性闯砻鎺Э捉橘|(zhì)透鏡天線，其特征在于，該天線為全封閉結(jié)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求1所述的一種二維掃描變?nèi)莨苡性闯砻鎺Э捉橘|(zhì)透鏡天線，其特征在于，所述支撐柱為圓筒狀，所述墊片為圓環(huán)狀，所述支撐柱與墊片的材料均為ABS塑料，所述支撐柱內(nèi)壁貼有吸波材料。

4.如權(quán)利要求1所述的一種二維掃描變?nèi)莨苡性闯砻鎺Э捉橘|(zhì)透鏡天線，其特征在于，所述一維掃描陣列采用多層變?nèi)莨苡性闯砻妫繉影橘|(zhì)基板，介質(zhì)基板的下表面刻蝕周期性排布的金屬圖案單元，每個金屬圖案單元為外正方形環(huán)嵌套內(nèi)正方形貼片，外正方形環(huán)與內(nèi)正方形貼片之間通過兩個方向相反的變?nèi)荻O管相連；相鄰的兩層間為空氣層或任意介電常數(shù)的介質(zhì)。

5.如權(quán)利要求1所述的一種二維掃描變?nèi)莨苡性闯砻鎺Э捉橘|(zhì)透鏡天線，其特征在于，所述一維掃描陣列采用多層變?nèi)莨苡性闯砻妫繉影橘|(zhì)基板，介質(zhì)基板的下表面刻蝕周期性排布的金屬圖案單元，每個金屬圖案單元為外圓形環(huán)嵌套內(nèi)圓形貼片，外圓形環(huán)與內(nèi)圓形貼片之間通過兩個方向相反的變?nèi)荻O管相連。

6.如權(quán)利要求4或5所述的一種二維掃描變?nèi)莨苡性闯砻鎺Э捉橘|(zhì)透鏡天線，其特征在于，所述一維掃描陣列相鄰的兩層間為分隔層，填充空氣、泡沫或介質(zhì)基板。