[發明專利]一種化學機械拋光液

在審

• 申請號: 201811614024.0
• 申請日: 2018-12-27
• 公開（公告）號: CN111378367A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發明（設計）人: 姚穎;荊建芬;黃悅銳;李恒;蔡鑫元;卞鵬程
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 北京大成律師事務所 11352
• 代理人: 李佳銘;王芳

1.一種化學機械拋光液，其特征在于，所述的化學機械拋光液包含研磨顆粒、金屬緩蝕劑、絡合劑、氧化劑、磷酸酯類表面活性劑和水。

2.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述的磷酸酯類表面活性劑具有如下式(1)或式(2)或同時含有式(1)、式(2)結構的多元醇磷酸酯：

其中，X＝RO，RO-(CH₂CH₂O)_m，RCOO-(CH₂CH₂O)_n；R為C8-C22的烷基或烷基苯、甘油基(C₃H₅O₃-)，m,n＝1-30；M＝H,K,NH₄,(CH₂CH₂O)_1-3NH_3-1和/或Na。

3.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑的質量百分比含量為0.0005％-1％。

4.根據權利要求3所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的磷酸酯類表面活性劑的質量百分比含量為0.001～0.5％。

5.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒選自二氧化硅、三氧化二鋁、二氧化鈰、摻雜鋁的二氧化硅和聚合物顆粒中的一種或多種。

6.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的質量百分比含量為1-20％。

7.根據權利要求6所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的質量百分比含量為2-15％。

8.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的粒徑為20～150nm。

9.根據權利要求8所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的粒徑為30～120nm。

10.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述金屬緩蝕劑為唑類化合物。

11.根據權利要求10所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的唑類化合物選自苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1,2,4-三氮唑、3-氨基-1,2,4-三氮唑、4-氨基-1,2,4-三氮唑、5-甲基-四氮唑、5-氨基-四氮唑、5-苯基-四氮唑、巰基苯基四氮唑、苯并咪唑、萘并三唑和2-巰基-苯并噻唑中的一種或多種。

12.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述金屬緩蝕劑的質量百分比含量為0.001～2％。

13.根據權利要求12所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述金屬緩蝕劑的質量百分比含量為0.01％-1％。

14.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的絡合劑選自草酸、丙二酸、丁二酸、檸檬酸、酒石酸、甘氨酸、丙氨酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羥基亞乙基二膦酸、乙二胺四亞甲基膦酸、2-羥基膦酸基乙酸、多氨基多醚基亞甲基膦酸和二乙烯三胺五甲叉膦酸中的一種或多種。

15.根據權利要求1的所述化學機械拋光液，其特征在于，所述絡合劑的質量百分比含量為0.01％-2％。

16.根據權利要求15所述化學機械拋光液，其特征在于，所述絡合劑的質量百分比含量為0.05％-1％。