[發(fā)明專利]一種化學(xué)機(jī)械拋光液及其應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811613972.2
• 申請(qǐng)日: 2018-12-27
• 公開（公告）號(hào): CN111378366B
• 公開（公告）日: 2022-11-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚穎;周文婷;荊建芬;楊俊雅;李恒;卞鵬程;黃悅銳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號(hào): C11D1/66
• 分類號(hào): C11D1/66;C09G1/02
• 代理公司: 北京大成律師事務(wù)所 11352
• 代理人: 李佳銘;王芳

1.一種化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述化學(xué)機(jī)械拋光液包含研磨顆粒和乙氧基化丁氧基化烷基醇。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述乙氧基化丁氧基化烷基醇中，乙氧基數(shù)x為5-20，丁氧基數(shù)y為5-20，烷基為碳原子數(shù)11-15的直鏈或支鏈。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述乙氧基化丁氧基化烷基醇的質(zhì)量百分比濃度為0.0005％-1％。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述乙氧基化丁氧基化烷基醇的質(zhì)量百分比濃度為0.001％-0.5％。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒選自二氧化硅、三氧化二鋁、二氧化鈰、摻雜鋁的二氧化硅和聚合物顆粒中的一種或多種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的質(zhì)量百分比含量為5-30％。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的質(zhì)量百分比含量為10-25％。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的粒徑為30～200nm。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒的粒徑為50～180nm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述化學(xué)機(jī)械拋光液的pH值為8-12。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，所述化學(xué)機(jī)械拋光液的pH值為9-12。

12.一種如權(quán)利要求1-11任一所述的化學(xué)機(jī)械拋光液在二氧化硅拋光中的應(yīng)用。