[發明專利]打印耗材及具有光學膜的硒鼓制備方法

有效

• 申請號: 201811613108.2
• 申請日: 2018-12-27
• 公開（公告）號: CN109656109B
• 公開（公告）日: 2022-03-22
• 發明（設計）人: 范東;熊偉;梅啟娟;李小彬
• 申請（專利權）人: 北海市天硌打印耗材有限公司
• 主分類號: G03G5/06
• 分類號: G03G5/06
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理有限公司 11369
• 代理人: 靳浩

1.一種利用打印耗材制備具有光學膜的硒鼓的方法，其特征在于，

所述的打印耗材包括如下重量份數的原料：

碳化鎢粉末0.5-1份、氧化銦錫2-6份、硫化鎘2-6份、鎳0.1-0.5份、氧化鎳1-3份、第一有機光電轉化材料1-3份和第二有機光電轉化材料1-3份；

其中，所述第一有機光電轉化材料為具有式(I)結構的化合物，所述第二有機 光電轉化材料為具有式(II)結構的化合物；

所述方法包括如下步驟：

步驟1，將碳化鎢粉末、氧化銦錫、硫化鎘、氧化鎳研磨成3-5mm顆粒，混合均勻，得到第一混合物；

將鎳和硫研磨成3-5mm的顆粒，混合均勻，得到第二混合物；

步驟2，將第一混合物加熱至1000-1500℃，在該溫度下，加熱1-1.5h，而后，降溫至800-850℃，加入第二混合物，在氮氣保護，加熱30-40min，而后冷卻至350℃，得到基本材料，其中，所述冷卻過程具體為：

在氮氣的保護下，

S1，以10℃每分鐘的降溫速率降溫至700℃，在該溫度下保溫10min；

S2，以15℃每分鐘的降溫速率降溫至550℃，在該溫度下保溫10min；

S3，以5℃每分鐘的降溫速率降溫至400℃，在該溫度下保溫15min；

S4，以30℃每分鐘的降溫速率降溫至350℃，完成冷卻，保持在該溫度；

步驟3，將所述基本材料分為第一噴涂材料和載體材料，所述第一噴涂材料保持在350℃；

所述載體材料以50℃每分鐘的降溫速率降溫至常溫，而后，將其研磨成粒徑為6mm的顆粒；

其中，所述載體材料與所述第一噴涂材料的質量比為1:3；

步驟4，將第一和第二有機光電轉化材料研磨成粒徑為5mm的顆粒，然后，第一光電轉化材料和第二光電轉化材料分別于溶劑混合，攪拌均勻，得到第一涂層材料和第二涂層材料；

步驟5，將所述載體材料分為等重量的兩部分，為第一載體和第二載體，在所述第一載體和所述第二載體上噴涂其質量為5％的鋁溶膠，而后將所述第一載體置于所述第一涂層材料中，將所述第二載體置于所述第二涂層材料中，浸泡10min，取出，瀝干，得到第一光電轉化微球、第二光電轉化微球、第一剩余浸泡液和第二剩余浸泡液；

將所述第一光電轉化微球和所述第二光電轉化微球置于紫外燈下照射4min，而后置于烘干裝置中，在溫度為80℃下，烘干；

步驟6，將所述第一噴涂材料、第一光電轉化微球、第二光電轉化微球、第一剩余浸泡液和第二剩余浸泡液涂布于基體上；

具體為：

所述基體包括：

基板，所述基板上開設有一對第一容納槽和一第三容納槽；

其中，所述第三容納槽位于一對所述第一容納槽之間；

一對阻擋結構，任一所述阻擋結構包括有圍繞所述第一容納槽的方式設置的第一阻擋壩和第二阻擋壩，所述第一阻擋壩和所述第二阻擋壩之間形成有第二容納槽，所述第二容納槽與所述第一容納槽連通；

所述第一阻擋壩和所述第二阻擋壩均固定在所述基板上；

其中，所述第一容納槽的底面和所述第一阻擋壩和所述第二阻擋壩的頂面均為弧形面；

涂布過程為：

1)利用霧化成膜法在基體表面依次噴涂所述第一剩余浸泡液和第二剩余浸泡液，同時在基體表面的另一側噴涂溫度為250℃的氮氣；

2)在所述第一容納槽噴涂第一光電轉化微球直至涂層上表面高于基板表面，但是低于所述第一阻擋壩和所述第二阻擋壩的頂面；

3)在所述第三容納槽噴涂第二光電轉化微球直至涂層上表面高于基板表面，但是低于所述第一阻擋壩和所述第二阻擋壩的頂面；

4)將基體冷卻至200℃，而后將第一噴涂材料涂布于基體表面上，覆蓋所述第一容納槽，冷卻至100℃，而后在其上覆蓋光學膜；

所述光學膜的厚度為1mm；

所述光學膜包括聚甲基丙烯酸甲酯，光散射顆粒硅樹脂微球，其中光散射顆粒粒徑為8μm，其填充濃度為0.7v％；

所述光學膜的制備方法包括：

將所述聚甲基丙烯酸甲酯與二氯甲烷按照質量比為1:5混合，攪拌均勻，在水浴溫度為30℃下，水浴超聲5min；

邊超聲邊加入硅樹脂微球，而后在水浴溫度為30℃下，水浴超聲1min，得到涂布液；

控制玻璃板的溫度為20℃，將所述涂布液均勻的涂布在所述玻璃板上，而后，在溫度為90℃下烘干，得到所述光學膜。