[發(fā)明專利]顯示面板和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811611523.4 | 申請日: | 2018-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN109445161B | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蔡選憲;劉博智;陳國照 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1362;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京晟睿智杰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人: | 于淼 |
| 地址: | 361101 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:陣列基板以及和所述陣列基板相對設(shè)置的彩膜基板;
所述陣列基板包括多個光感元件;
所述彩膜基板包括第一基板、第一遮光層和至少一個第二遮光層;
所述第一遮光層位于所述第一基板靠近所述陣列基板的一側(cè),且所述第一遮光層包括多個第一鏤空部;
所述第二遮光層位于所述第一遮光層靠近所述陣列基板的一側(cè),且所述第二遮光層包括多個第二鏤空部;
在垂直于所述第一基板所在平面的方向上,所述第一鏤空部的正投影和所述第二鏤空部的正投影、所述光感元件的正投影均相交疊;
所述第一遮光層和所述第二遮光層之間設(shè)置有第一平坦層;
所述顯示面板還包括多個第一透鏡,所述第一透鏡位于所述第一鏤空部和/或所述第二鏤空部內(nèi),且所述第一透鏡的曲面朝向所述陣列基板設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
在平行于所述第一基板所在平面的方向上,所述第一鏤空部的截面為圓形;
所述第一透鏡的曲面的曲率半徑為R,且滿足R≥(4d2+D2)/(8d);
其中,d為所述第一透鏡的最大厚度,D為所述第一鏤空部的直徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第二遮光層靠近所述陣列基板的一側(cè)設(shè)置有第二平坦層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,其特征在于,
所述顯示面板還包括多個第二透鏡,所述多個第二透鏡位于所述第二平坦層靠近所述陣列基板的一側(cè),且所述第二透鏡的曲面朝向所述陣列基板設(shè)置;
在垂直于所述第一基板所在平面的方向上,所述第二透鏡的正投影和所述第二鏤空部的正投影、所述光感元件的正投影均相交疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,
所述顯示面板還包括多個支撐柱,所述多個支撐柱位于所述陣列基板和所述彩膜基板之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板,其特征在于,
所述多個第二透鏡和所述多個支撐柱同層同材料設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板,其特征在于,
所述第二透鏡的最大厚度小于等于所述支撐柱的高度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述陣列基板還包括第三遮光層和第三平坦層;
所述第三遮光層位于所述第三平坦層靠近所述彩膜基板的一側(cè),且所述第三遮光層包括多個第三鏤空部;
在垂直于所述第一基板所在平面的方向上,所述第三鏤空部的正投影和所述光感元件的正投影相交疊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板,其特征在于,
所述陣列基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū),所述非顯示區(qū)圍繞所述顯示區(qū)設(shè)置;
所述第三遮光層還包括至少一條接地線,所述至少一條接地線位于所述非顯示區(qū)內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述光感元件包括光感開關(guān)和光敏二極管;
所述光感開關(guān)的第一極和所述光敏二極管電連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,
所述光敏二極管包括N型半導(dǎo)體部、P型半導(dǎo)體部和P電極;
所述光感開關(guān)的有源層包括延伸部,所述延伸部復(fù)用為所述N型半導(dǎo)體部;
所述P電極和所述P型半導(dǎo)體部電連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,
所述光感元件還包括電容元件,所述電容元件和所述光敏二極管并聯(lián)連接。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





