[發(fā)明專利]一種新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811600516.4
• 申請(qǐng)日: 2018-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109490253B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 代京京;王智勇;劉豫穎;趙思思;張景豪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京工業(yè)大學(xué);北京空間機(jī)電研究所
• 主分類號(hào): G01N21/47
• 分類號(hào): G01N21/47;G01N21/01
• 代理公司: 北京匯信合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11335
• 代理人: 孫民興

1.一種新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，包括：測(cè)試光源、測(cè)試室和信號(hào)處理系統(tǒng)；

所述測(cè)試光源包括鹵素?zé)艄庠春涂梢?jiàn)光超連續(xù)譜激光光源，所述鹵素?zé)艄庠唇?jīng)準(zhǔn)直后的光束、所述可見(jiàn)光超連續(xù)譜激光光源的激光束經(jīng)多層介質(zhì)膜光柵后合為一合束光；

所述合束光入射至所述測(cè)試室內(nèi)的待測(cè)樣品上，經(jīng)所述待測(cè)樣品散射后，散射光信號(hào)被所述測(cè)試室內(nèi)的光電探測(cè)器接收，所述光電探測(cè)器輸出信號(hào)至所述信號(hào)處理系統(tǒng)進(jìn)行處理，得到所述待測(cè)樣品的雙向反射分布函數(shù)。

2.如權(quán)利要求1所述的新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，所述鹵素?zé)艄庠吹墓饴飞显O(shè)有光學(xué)準(zhǔn)直系統(tǒng)，所述光學(xué)準(zhǔn)直系統(tǒng)對(duì)所述鹵素?zé)艄庠吹墓馐鴾?zhǔn)直后，入射至所述多層介質(zhì)膜光柵上；

所述可見(jiàn)光超連續(xù)譜激光光源的激光束無(wú)需準(zhǔn)直，直接入射至所述多層介質(zhì)膜光柵上。

3.如權(quán)利要求1所述的新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，所述可見(jiàn)光超連續(xù)譜激光光源采用全光纖結(jié)構(gòu)，輸出單模激光，波長(zhǎng)范圍是400～1700nm。

4.如權(quán)利要求1所述的新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，所述測(cè)試室為半球型測(cè)試暗室；

所述半球型測(cè)試暗室的頂部相對(duì)應(yīng)所述合束光設(shè)有通光孔；

所述半球型測(cè)試暗室的內(nèi)球面上緊密排布有多個(gè)所述光電探測(cè)器，所有所述光電探測(cè)器與所述信號(hào)處理系統(tǒng)相連；

所述半球型測(cè)試暗室內(nèi)設(shè)有四維工作轉(zhuǎn)臺(tái)，所述待測(cè)樣品通過(guò)樣品支撐部件安裝在所述四維工作轉(zhuǎn)臺(tái)上，所述四維工作轉(zhuǎn)臺(tái)帶動(dòng)所述待測(cè)樣品水平面旋轉(zhuǎn)和垂直面旋轉(zhuǎn)。

5.如權(quán)利要求4所述的新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，所述半球型測(cè)試暗室安裝在底托上構(gòu)成封閉的半球腔體。

6.如權(quán)利要求4所述的新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，所述四維工作轉(zhuǎn)臺(tái)帶動(dòng)所述待測(cè)樣品水平面360°旋轉(zhuǎn)和垂直面180°俯仰。

7.如權(quán)利要求1所述的新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，所述測(cè)試室包括：六軸機(jī)械手；

所述六軸機(jī)械手上安裝有樣品支撐部件，所述樣品支撐部件上夾持有所述待測(cè)樣品；所述六軸機(jī)械手一側(cè)設(shè)有在垂直面內(nèi)作±180°轉(zhuǎn)動(dòng)的探頭旋轉(zhuǎn)單元，所述探頭旋轉(zhuǎn)單元上安裝有所述光電探測(cè)器，所述光電探測(cè)器指向樣品中心位置，所述光電探測(cè)器與所述信號(hào)處理系統(tǒng)相連。

8.如權(quán)利要求1所述的新型模擬自然光雙向反射分布函數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，所述信號(hào)處理系統(tǒng)包括：前置放大器、鎖相位放大器和計(jì)算機(jī)；

所有所述光電探測(cè)器均與所述前置放大器相連，所述前置放大器與所述鎖相位放大器相連，所述鎖相位放大器與所述計(jì)算機(jī)相連。