[發明專利]一種電磁屏蔽玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201811599364.0
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN109819638B
• 公開（公告）日: 2019-12-20
• 發明（設計）人: 劉建國;楊劍;段軍;曾曉雁;許夢婷;劉強
• 申請（專利權）人: 華中科技大學;中國電子科技集團公司第三十研究所
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00;C03C17/10;C03B23/203
• 代理公司: 42201 華中科技大學專利中心
• 代理人: 張彩錦;曹葆青

1.一種電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1利用激光微增材制造技術在玻璃表面制作出導電屏蔽圖案或導電屏蔽薄膜；

S2利用激光焊接技術將上述帶有導電屏蔽圖案或導電屏蔽薄膜的玻璃，與另外有或無導電屏蔽圖案或導電屏蔽薄膜的玻璃焊接在一起，該另外的有導電屏蔽圖案或導電屏蔽薄膜的玻璃同樣采用步驟S1制備，以此得到所需的電磁屏蔽玻璃。

2.如權利要求1所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述步驟S1中的玻璃為有機透明材料或無機透明材料；所述導電屏蔽圖案或導電屏蔽薄膜由導電金屬材料、導電合金材料、ITO導電材料或FTO導電材料制成，厚度為50nm-100μm。

3.如權利要求1所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述步驟S1中的玻璃為平面或三維曲面。

4.如權利要求1所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述步驟S1中的激光微增材制造技術為激光微熔覆技術、激光誘導等離子體沉積技術或激光誘導前置轉移技術。

5.如權利要求4所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述激光微熔覆技術所用激光參數為：采用連續光纖激光，波長為1064nm，激光功率為0.1W-1000W，激光掃描速率為0.01mm-100mm/s，激光光斑直徑為5μm-10mm，激光掃描間距為0.01μm-15mm。

6.如權利要求4所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述激光誘導等離子體沉積技術所用激光參數為：激光功率為0.1W-1000W，激光掃描速率為0.01mm-5000mm/s，激光光斑直徑為1μm-10mm，激光掃描間距為0.01μm-15mm。

7.如權利要求4所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述激光誘導前置轉移技術所用激光參數為：激光功率為0.1W-1000W，激光掃描速率為0.01mm-5000mm/s，激光光斑直徑為1μm-10mm，激光掃描間距為0.01μm-15mm。

8.如權利要求1所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述步驟S2中的激光焊接技術在環境氣體中實現以使焊接后的導電屏蔽圖案或薄膜處于環境氣體中，或者激光焊接技術在真空中實現以使焊接后的導電屏蔽圖案或薄膜處于真空中。

9.如權利要求1所述的電磁屏蔽玻璃制備方法，其特征在于，所述步驟S2中的激光焊接參數為：激光脈沖寬度為皮秒或納秒級別，激光功率為0.1W-1000W，激光掃描速率為0.01mm-5000mm/s，激光光斑直徑為1μm-10mm，激光掃描間距為0.01μm-15mm。

10.一種電磁屏蔽玻璃，其特征在于，采用如權利要求1-9任一項所述的方法制備。