[發明專利]光學成像系統

在審

• 申請號: 201811598918.5
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN110133823A
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 張永明;陳映蓉;賴建勛;劉燿維
• 申請（專利權）人: 先進光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 高星

1.一種光學成像系統，由物側至像側依序包括：

第一透鏡，具有屈折力；

第二透鏡，具有屈折力，其像側面為凸面；

第三透鏡，具有屈折力；

第四透鏡，具有屈折力；

第五透鏡，具有屈折力；

第六透鏡，具有屈折力；

第一成像面，其為特定垂直于光軸的可見光像平面并且其中心視場于第一空間頻率的離焦調制轉換對比轉移率有最大值；以及

第二成像面，其為特定垂直于光軸的紅外光像平面并且其中心視場于第一空間頻率的離焦調制轉換對比轉移率有最大值；

其中所述光學成像系統具有屈折力的透鏡為六枚，所述第一透鏡至所述第六透鏡中至少一個透鏡為玻璃材質，所述光學成像系統于所述第一成像面上具有最大成像高度HOI，所述第一透鏡至所述第六透鏡中至少一個透鏡具有正屈折力，所述第一透鏡至所述第六透鏡的焦距分別為f1、f2、f3、f4、f5、f6，所述光學成像系統的焦距為f，所述光學成像系統的入射瞳直徑為HEP，所述第一透鏡物側面至所述第一成像面于光軸上具有距離HOS，所述光學成像系統的最大可視角度的一半為HAF，所述第一成像面與所述第二成像面間于光軸上的距離為FS，所述第一透鏡至所述第六透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6，前述ETP1至ETP6的總和為SETP，所述第一透鏡至所述第六透鏡于光軸的厚度分別為TP1、TP2、TP3、TP4、TP5以及TP6，前述TP1至TP6的總和為STP，其滿足下列條件：1.8≦f/HEP≦10.0；0degHAF≦150deg；0.2≦SETP/STP1；∣FS∣≦15μm；以及1≦HOS/HOI≦7。

2.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于：所述紅外光的波長介于700nm至1300nm以及所述第一空間頻率以SP1表示，其滿足下列條件：SP1≦440cycles/mm。

3.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于：所述第一透鏡與所述第二透鏡之間于光軸上的距離為IN12，所述第二透鏡與所述第三透鏡之間于光軸上的距離為IN23，所述第三透鏡與所述第四透鏡之間于光軸上的距離為IN34，其滿足下列條件：IN12IN23以及IN34IN23。

4.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于：所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第一成像面間平行于光軸的水平距離為ETL，所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第六透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列條件：0.2≦EIN/ETL1。

5.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于：所述第一透鏡至所述第六透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6，前述ETP1至ETP5的總和為SETP，所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第六透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列公式：0.2≦SETP/EIN1。

6.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于：所述第六透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第一成像面間平行于光軸的水平距離為EBL，所述第六透鏡像側面上與光軸的交點至所述第一成像面平行于光軸的水平距離為BL，其滿足下列公式：0.1≦EBL/BL≦1.1。

7.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于：所述光學成像系統還包括光圈，于所述光圈至所述第一成像面于光軸上具有距離InS，所述紅外光的波長介于700nm至1300nm并且所述第一空間頻率以SP1表示，其滿足下列公式：0.2≦InS/HOS≦1.1以及SP1≦55cycles/mm。