[發明專利]一種應用于半導體領域的涂層的潔凈度的檢測方法在審
| 申請號: | 201811598346.0 | 申請日: | 2018-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN109632926A | 公開(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發明(設計)人: | 郭昊;劉紅霞;郁忠杰;李加;徐俊陽;王嘉雨 | 申請(專利權)人: | 沈陽富創精密設備有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62;G01N1/34;G01N1/38 |
| 代理公司: | 沈陽優普達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 俞魯江 |
| 地址: | 110000 遼寧*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢測 潔凈度 半導體領域 水滴 稀酸 直尺 電感耦合等離子體質譜儀 檢測結果 零件涂層 制備應用 可信度 外標法 稱重 稀釋 去除 應用 清洗 | ||
1.一種應用于半導體領域的涂層的潔凈度的檢測方法,其特征在于,
主要包括以下幾個步驟:
1)將1-4ml稀酸滴到零件涂層區域,數分鐘后收集稀酸稱重并檢測;
2)清洗吹干后,取1-4ml水滴在與酸相同的區域,用直尺做標準,拍下照片,用軟件算出面積;
3)將稀釋后的樣品用外標法進行檢測,該方法獲得的檢測結果去除干擾較徹底。
2.如權利要求1所述的涂層的潔凈度的檢測方法,其特征在于,所述步驟1)的稀酸采用電子級硝酸或Tamapure硝酸,微量移液槍采用全部塑料材料的高精度移液槍。
3.如權利要求1所述的涂層的潔凈度的檢測方法,其特征在于,所述步驟2)需要用噴淋水洗7min后氮氣吹干后再滴入1-4ml水;直尺要和水所形成的區域同時被照相機所記錄;通過ImageJ軟件算出1-4ml水所形成面積。
4.如權利要求1所述的涂層的潔凈度的檢測方法,其特征在于,所述步驟3)PE的ICPMS,氬氣純度≥99.996%,氣壓85psi-100psi氨氣純度>99.999%,氨氣壓力10-20psi。
5.如權利要求1所述的涂層的潔凈度的檢測方法,其特征在于,試劑瓶采用PFA材質的試劑瓶。
6.如權利要求1所述的涂層的潔凈度的檢測方法,其特征在于,ICPMS所使用的是去干擾能力強的DRC反應模式。
7.如權利要求1所述的涂層的潔凈度的檢測方法,其特征在于,
該檢測方法可應用在氧化釔、氧化鋁涂層上。
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