[發明專利]一種顯示面板及其制造方法

有效

• 申請號: 201811596627.2
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN109597227B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 雷丹
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240
• 代理人: 邢濤

1.一種顯示面板的制造方法，其特征在于，所述顯示面板包括第一基板、液晶層和第二基板，所述第一基板和第二基板相對設置，所述液晶層設置在第一基板和第二基板之間；所述制造方法包括：

在所述第一基板或第二基板上涂布光阻層；

對所述光阻層進行預烘烤；

通過對應的光罩進行曝光；

通過顯影洗掉光阻層未曝光區域形成光阻；

通過后烘烤形成光阻圖案；

所述光阻圖案的起始劑純度大于96.9%，小于等于99.5%；

其中，光阻圖案包括樹脂、單體、起始劑和溶劑，所述樹脂用于幫助顏料分散及對第一基板和第二基板的襯底的附著，所述單體用于與所述起始劑反應抵抗弱堿溶液侵蝕；所述起始劑用于使單體交聯化；所述溶劑用于使光阻圖案成為溶液態并決定粘度涂布性質；

所述光阻在顯影后形成穩定的倒梯形結構，在經過后烘烤后形成正梯形結構，兩側壁底部不會產生剝離現象。

2.如權利要求1所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，光阻圖案的起始劑純度大于等于98.6%，小于等于99.5%。

3.如權利要求1所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，所述通過對應的光罩進行曝光步驟中，曝光能量的范圍在20-100mj/cm²之間。

4.如權利要求1所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，所述通過對應的光罩進行曝光步驟中，曝光間隙的范圍在100-500um之間。

5.如權利要求1所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，所述通過顯影洗掉光阻層未曝光區域形成光阻的步驟中，顯影時間在30-100s之間。

6.如權利要求1所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，所述預烘烤溫度在70-130℃之間。

7.一種顯示面板的制造方法，其特征在于，所述顯示面板包括第一基板、液晶層和第二基板，所述第一基板和第二基板相對設置，所述液晶層設置在第一基板和第二基板之間；所述制造方法包括：

在所述第一基板或第二基板上涂布光阻層；

通過對應的光罩進行曝光；

通過顯影洗掉光阻層未曝光區域形成光阻；

通過后烘烤形成光阻圖案；

所述光阻圖案的起始劑純度大于96.9%，小于等于99.5%；曝光能量的范圍在20-100mj/cm²之間；曝光間隙的范圍在100-500um之間；顯影時間在30-100s之間；預烘烤溫度在70-130℃之間；

其中，光阻圖案包括樹脂、單體、起始劑和溶劑，所述樹脂用于幫助顏料分散及對第一基板和第二基板的襯底的附著，單體用于與光起始劑反應抵抗弱堿溶液侵蝕；起始劑用于使單體交聯化；溶劑用于使光阻圖案成為溶液態并決定粘度涂布性質；

所述光阻在顯影后形成穩定的倒梯形結構，在經過后烘烤后形成正梯形結構，兩側壁底部不會產生剝離現象。

8.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板采用如權利要求1-7任意一項所述的制造方法制得，所述顯示面板包括第一基板、液晶層和第二基板，所述第一基板和第二基板相對設置，所述液晶層設置在第一基板和第二基板之間；所述第一基板或第二基板上設有正梯形結構的光阻圖案，所述光阻圖案的起始劑純度大于96.9%，小于等于99.5%；

其中，光阻圖案包括樹脂、單體、起始劑和溶劑，所述樹脂用于幫助顏料分散及對第一基板和第二基板的襯底的附著，單體用于與光起始劑反應抵抗弱堿溶液侵蝕；起始劑用于使單體交聯化；溶劑用于使光阻圖案成為溶液態并決定粘度涂布性質；

所述光阻在顯影后形成穩定的倒梯形結構，在經過后烘烤后形成正梯形結構，兩側壁底部不會產生剝離現象。