[發明專利]原子層沉積腔室部件及其制備方法、以及原子層沉積設備

在審

• 申請號: 201811594524.2
• 申請日: 2018-12-25
• 公開（公告）號: CN111364027A
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 李松舉;付東
• 申請（專利權）人: 廣東聚華印刷顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C16/54
• 分類號: C23C16/54;C23C16/26;C23C16/505;C23C16/455;C25D3/12;C09D1/00;C09D183/04
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 曾銀鳳

1.一種原子層沉積腔室部件，其特征在于，所述原子層沉積腔室部件包括：

主體，所述主體在原子層沉積腔室中使用；以及

疏水性涂層，所述疏水性涂層形成于所述主體的表面。

2.根據權利要求1所述的原子層沉積腔室部件，其特征在于，所述疏水性涂層的表面呈現化學惰性。

3.根據權利要求2所述的原子層沉積腔室部件，其特征在于，所述表面呈現化學惰性的涂層為石墨烯涂層；和/或，

所述表面呈現化學惰性的涂層選自鈷電鍍鍍層、鎳電鍍鍍層、鎂電鍍鍍層和鋁電鍍鍍層的至少一種。

4.根據權利要求1所述的原子層沉積腔室部件，其特征在于，所述疏水性涂層的表面具有疏水化學鍵。

5.根據權利要求4所述的原子層沉積腔室部件，其特征在于，所述表面具有疏水化學鍵的涂層選自氟化瀝青涂層、正十二烷基硫醇涂層、有機氧硅烷納米涂層、聚四氟乙烯涂層和聚偏氟乙烯涂層的至少一種。

6.根據權利要求1-5任一項所述的原子層沉積腔室部件，其特征在于，所述沉積腔室部件為氣體擴散器、襯底承載臺、保護套、成膜區域限定框、掩膜板、觀察窗開關閥門、腔室壁、腔室蓋和處理配件中的至少一種。

7.根據權利要求1所述的原子層沉積腔室部件，其特征在于，所述疏水性涂層的厚度為1μm-100μm。

8.一種原子層沉積腔室部件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供一種原子層沉積腔室部件的主體；以及

在所述主體的表面形成疏水性涂層，得到原子層沉積腔室部件。

9.根據權利要求8所述的原子層沉積腔室部件的制備方法，其特征在于，所述主體位于原子層沉積腔室中，所述疏水性涂層為石墨烯涂層，在所述主體的表面形成所述疏水性涂層的操作為：在襯底未送進原子層沉積腔室之前，通過等離子體增強原子層沉積在主體的表面沉積石墨烯涂層。

10.一種原子層沉積設備，其特征在于，包括權利要求1-7任一項所述的原子層沉積腔室部件。