[發(fā)明專利]高密度檢測對象的檢測區(qū)域的選擇方法及其X射線管裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811593663.3 | 申請日: | 2018-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN111157550A | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金亨哲;金起范;金東郁 | 申請(專利權(quán))人: | 嘉必思股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 崔龍鉉;王璇 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高密度 檢測 對象 區(qū)域 選擇 方法 及其 射線 裝置 | ||
1.一種高密度檢測對象的檢測區(qū)域的選擇方法,包括以下步驟:
確定包括X射線管和檢測器的檢測模塊和檢測站點(diǎn)的位置;
從位于檢測站點(diǎn)的檢測對象中確定檢測區(qū)域;
旋轉(zhuǎn)檢測區(qū)域或檢測器,以獲取二維傾斜圖像;以及
從獲取的二維傾斜圖像中選擇檢測部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高密度檢測對象的檢測區(qū)域的選擇方法,其特征在于,在以預(yù)先確定的角度旋轉(zhuǎn)X射線管或檢測器的狀態(tài)下獲取二維傾斜圖像。
3.一種保護(hù)檢測對象的目標(biāo)限制結(jié)構(gòu)的X射線管裝置,其特征在于,用于檢測高密度集成電路,并且包括:
管體(51),產(chǎn)生X射線并向目標(biāo)(T)放射;
限制引導(dǎo)單元(52),將從管體(51)放射的X射線(XT、XP)引導(dǎo)至引導(dǎo)孔(521);以及
屏蔽過濾器(53),調(diào)節(jié)通過引導(dǎo)孔(521)引導(dǎo)的X射線的量,
其中,所述屏蔽過濾器(53)以引導(dǎo)孔(521)為基準(zhǔn)可移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的保護(hù)檢測對象的目標(biāo)限制結(jié)構(gòu)的X射線管裝置,其特征在于,限制引導(dǎo)單元(52)為準(zhǔn)直儀。
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