[發(fā)明專利]一種顯示面板的制作方法及顯示面板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811592163.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109597253A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉巖溪;李昇鴻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1345 | 分類號(hào): | G02F1/1345;G02F1/13;G03F7/20;G02F1/1343 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示面板 金屬電極 連接區(qū)域 金屬層 邊框 設(shè)備和材料 電性連接 曝光顯影 制作過(guò)程 側(cè)面 減小 良率 申請(qǐng) 制作 體內(nèi) 延伸 | ||
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種顯示面板的制作方法及顯示面板,包括:提供顯示面板本體,所述顯示面板本體內(nèi)設(shè)有金屬電極,且所述金屬電極延伸至所述顯示面板本體的一側(cè)面;采用曝光顯影工藝在所述顯示面板本體的所述側(cè)面形成連接區(qū)域,所述連接區(qū)域與所述金屬電極相對(duì)應(yīng);在所述連接區(qū)域上形成金屬層,以使所述連接區(qū)域的金屬層與對(duì)應(yīng)的所述金屬電極電性連接。本申請(qǐng)的方案降低了顯示面板制作過(guò)程中設(shè)備和材料的成本且減小了顯示面板的邊框?qū)挾龋岣吡孙@示面板的良率。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示面板技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示面板的制作方法及顯示面板。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,窄邊框的顯示面板已經(jīng)成為發(fā)展趨勢(shì),并被用于各種電子設(shè)備中。由于在傳統(tǒng)的顯示面板的制作中,陣列基板的邊框區(qū)域需要預(yù)留出用于綁定COF(Chip On Flex,or,Chip On Film,常稱覆晶薄膜)的綁定區(qū),導(dǎo)致顯示面板的邊框通常較寬,降低了顯示效果。針對(duì)該問(wèn)題,對(duì)于液晶顯示面板,目前可以通過(guò)轉(zhuǎn)印的方式,在玻璃基板的側(cè)面形成連接線,實(shí)現(xiàn)側(cè)面綁定,在此過(guò)程中,由于相鄰連接線的間距較小,且此時(shí)連接線圖形尚未固化,導(dǎo)致相鄰連接線容易相連,造成轉(zhuǎn)印失敗,降低了顯示面板的良率,另一方面,采用轉(zhuǎn)印技術(shù)實(shí)現(xiàn)側(cè)面綁定需要的設(shè)備成本以及材料成本均較高。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種顯示面板的制作方法及顯示面板,以解決顯示面板邊框?qū)挕@示面板制作過(guò)程中設(shè)備和材料成本高以及良率低的問(wèn)題。
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種顯示面板的制作方法,包括以下步驟:
提供顯示面板本體,所述顯示面板本體內(nèi)設(shè)有金屬電極,且所述金屬電極延伸至所述顯示面板本體的一側(cè)面;
采用曝光顯影工藝在所述顯示面板本體的所述側(cè)面形成連接區(qū)域,所述連接區(qū)域與所述金屬電極相對(duì)應(yīng);
在所述連接區(qū)域上形成金屬層,以使所述連接區(qū)域的金屬層與所述金屬電極電性連接。
進(jìn)一步的,所述采用曝光顯影工藝在所述顯示面板本體的所述側(cè)面形成連接區(qū)域包括以下步驟:
在所述顯示面板本體的所述側(cè)面覆蓋一層光阻;
在所述光阻上設(shè)置光罩;
通過(guò)所述光罩對(duì)所述光阻進(jìn)行曝光顯影處理,以去除與所述金屬電極相對(duì)應(yīng)的區(qū)域上的光阻,并將去除光阻后的區(qū)域作為所述連接區(qū)域。
進(jìn)一步的,所述通過(guò)所述光罩對(duì)所述光阻進(jìn)行曝光顯影包括以下步驟:
去除所述光阻上的光罩。
進(jìn)一步的,所述連接區(qū)域在所述側(cè)面的正投影覆蓋所述金屬電極在所述側(cè)面的正投影。
進(jìn)一步的,所述在所述連接區(qū)域上形成金屬層包括以下步驟:
在曝光顯影處理后的所述側(cè)面覆蓋金屬層;
去除剩余光阻以及所述剩余光阻上的金屬層,獲得所述連接區(qū)域的金屬層。
進(jìn)一步的,所述在曝光顯影處理后的所述側(cè)面覆蓋金屬層包括以下步驟:
采用濺射工藝在曝光顯影處理后的所述側(cè)面覆蓋金屬層。
進(jìn)一步的,在所述連接區(qū)域上形成金屬層后包括以下步驟:
將COF與所述連接區(qū)域的金屬層電性連接。
進(jìn)一步的,所述將COF與所述連接區(qū)域的金屬層電性連接包括以下步驟:
在所述連接區(qū)域的金屬層上設(shè)置導(dǎo)電膠;
通過(guò)所述導(dǎo)電膠將所述COF貼合在所述連接區(qū)域的金屬層上,使所述COF與所述金屬層電性連接。
進(jìn)一步的,所述金屬層的材料包括鋁的復(fù)合金屬或者金屬銅。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





