[發明專利]一種霧化輔助CVD薄膜沉積裝置有效
| 申請號: | 201811587320.6 | 申請日: | 2018-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN109338338B | 公開(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發明(設計)人: | 馮倩;龔恒翔;郝躍;張進成;廖飛;楊專青;馬五吉 | 申請(專利權)人: | 西安電子科技大學;重慶理工大學 |
| 主分類號: | C23C18/02 | 分類號: | C23C18/02;C23C16/44 |
| 代理公司: | 重慶市諾興專利代理事務所(普通合伙) 50239 | 代理人: | 劉興順 |
| 地址: | 710071*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 霧化 輔助 cvd 薄膜 沉積 裝置 | ||
1.一種霧化輔助CVD薄膜沉積裝置,其特征在于:包括緩沖混合室(1)、過渡腔(5)和反應室(8),其中緩沖混合室(1)頂部豎直設有多路氣相物進管(2),該緩沖混合室外壁的左側設有多路氣溶膠進管(3),每路氣溶膠進管(3)與一個單獨的霧化源相連,且氣相物進管(2)和氣溶膠進管(3)均與緩沖混合室(1)的內腔連通;所述緩沖混合室(1)內豎直固定有一塊緩沖板(4),緩沖板(4)上端與緩沖混合室(1)固定,該緩沖板下端懸空,且緩沖板(4)將氣溶膠進管(3)和氣相物進管(2)與緩沖混合室(1)右部的出口隔開;
所述過渡腔(5)位于緩沖混合室(1)和反應室(8)之間,緩沖混合室(1)內混合后的前驅體通過該過渡腔后進入反應室(8)內;所述過渡腔(5)的內腔為矩形腔,該矩形腔的高度為5-8mm,且過渡腔(5)中部的窗口處水平設有透明石英玻璃片(6),該透明石英玻璃片用于觀察和加載光照;所述過渡腔(5)內壁的底部設有兩個液體收集凹槽(5d),這兩個液體收集凹槽分居在所述透明石英玻璃片(6)左、右側;兩個所述液體收集凹槽(5d)的結構及尺寸一致,該液體收集凹槽的寬度為0.1-0.3mm,深度為1-2mm,且液體收集凹槽(5d)的槽底與液體收集瓶(7)連通;
所述反應室(8)的側壁為雙層中空結構,中間的空腔為水冷腔,且反應室(8)的外壁上接有與該水冷腔連通的進水管和出水管;所述反應室(8)頂部敞口,該敞口能夠由密封蓋(9)密封,而密封蓋(9)上設有水冷卻腔,且密封蓋(9)上接有與該水冷卻腔連通的進水管和出水管;所述反應室(8)內水平設有反應腔(10),該反應腔左端的進口與所述過渡腔(5)出口端連通,反應腔(10)右端的出口裝在所述反應室(8)側壁上的安裝孔中;所述反應腔(10)為矩形腔,該反應腔上壁與下壁之間的間距在5mm以內;所述反應腔(10)中部的上缺口處設有上升降板(11),該反應腔中部的下缺口處對應上升降板(11)設有下升降板(12);所述上升降板(11)的上板面沿反應腔(10)長度方向并排固定有一組上碘鎢燈(13),該上碘鎢燈的長度方向朝所述反應室(8)的前、后側壁,所述下升降板(12)下板面對應上碘鎢燈(13)固定有一組下碘鎢燈(14);所述上升降板(11)和下升降板(12)的左、右端分別通過一個高度調整組件與反應腔(10)外表面相連,并可以在高度調整組件的作用下調整上、下升降板(11、12)的高度,從而調整上、下升降板(11、12)之間的間距;所述上、下升降板(11、12)之間的區域為反應區,而下升降板(12)的上板面配設有多組不同厚度的襯底模板(15),該襯底模板上的安裝孔用于放置相應厚度的襯底;
所述過渡腔(5)上接有用于檢測該過渡腔內氣體壓力的第一氣體壓力傳感器(16),尾氣收集管(17)上接有第二氣體壓力傳感器(18)和抽氣泵(19),該尾氣收集管的進氣端與所述反應腔(10)右端的出口連通;所述第二氣體壓力傳感器(18)用于檢測尾氣收集管(17)內的氣體壓力,第一、二氣體壓力傳感器(16、18)的檢測數據反饋給所述抽氣泵(19)的控制器,該控制器控制抽氣泵(19)的抽氣速度;
所述緩沖混合室(1)下方接有液體收集罐(20),該液體收集罐的連接段與緩沖混合室(1)底部相連,并用于收集緩沖混合室(1)內的液體;所述反應腔(10)的底部設有液體收集槽(10a),該液體收集槽位于所述反應區的左側;
所述上碘鎢燈(13)等距設置,該上碘鎢燈的數目為4-8個,且每個上碘鎢燈(13)和每個下碘鎢燈(14)分別通過一個對應的控制器控制發熱功率。
2.根據權利要求1所述的霧化輔助CVD薄膜沉積裝置,其特征在于:所述高度調整組件包括L形塊(21)和鎖緊螺母(23),其中L形塊(21)的豎直段與所述上、下升降板(11、12)端部固定,該L形塊的水平段活套在螺桿(22)外面,該螺桿(22)豎直固設在所述反應腔(10)的外壁上;所述鎖緊螺母(23)套裝在對應的螺桿(22)上,并位于對應的L形塊(21)水平段上、下側,且用于對L形塊(21)限位。
3.根據權利要求1所述的霧化輔助CVD薄膜沉積裝置,其特征在于:所述氣溶膠進管(3)與緩沖混合室(1)右部的出口位于同一個水平面內,所述緩沖板(4)下端超過氣溶膠進管(3)的底面10-15mm。
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C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
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