[發明專利]復合型SEM-CL和FIB-IOE顯微術

在審

• 申請號: 201811586279.0
• 申請日: 2018-12-24
• 公開（公告）號: CN109979793A
• 公開（公告）日: 2019-07-05
• 發明（設計）人: M.馬祖茲;G.格萊德修;G.布德尼克;J.菲勒維茨
• 申請（專利權）人: FEI公司
• 主分類號: H01J37/26
• 分類號: H01J37/26;H01J37/22
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張凌苗;申屠偉進

1.一種系統，其包含：

離子束源，其配置成沿離子束軸在樣本位置處產生并聚焦離子束；

電子束源，其配置成沿電子束軸在所述樣本位置處產生并聚焦電子束；以及

反射器，其定位于所述樣本與所述離子束源和所述電子束源之間，所述反射器進一步成形為接收在所述樣本位置處的樣本發射的光，所述光由所述樣本與所述離子束或所述電子束之間的相互作用產生，所述反射器進一步成形為將所述光反射到光檢測系統。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述反射器包含拋物線形狀的鏡面。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述反射器包含橢圓形狀的鏡面。

4.根據權利要求3所述的系統，其中所述光檢測系統包含光纖線纜，所述光纖線纜具有輸入端和輸出端，所述輸出端光學耦合至真空系統內部或外部的光電探測器，并且其中所述橢圓形狀的鏡面配置成聚焦從所述樣本發射到所述光纖線纜的所述輸入端的光。

5.根據權利要求1所述的系統，其進一步包含移動載臺，所述移動載臺耦合至所述反射器并且配置成相對于所述樣本位置并且相對于所述電子束軸和所述離子束軸移動所述反射器。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述反射器包括第一孔，所述第一孔定位成允許所述電子束進入所述反射器的內部；和第二孔，所述第二孔定位成允許所述離子束進入所述反射器的內部。

7.根據權利要求6所述的系統，其中所述第一孔和所述第二孔是開槽孔。

8.根據權利要求1所述的系統，其中所述反射器包括孔，所述孔定位成允許所述電子束進入在第一反射器位置的所述反射器的內部，并且允許所述離子束進入在第二反射器位置的所述反射器的內部。

9.根據權利要求8所述的系統，其中所述反射器和所述樣本耦合至可控載臺，所述可控載臺配置成將所述反射器移動至所述第一反射器位置中和所述第二反射器位置中。

10.根據權利要求1所述的系統，其進一步包含位于所述反射器附近的轉向電極，以便基于所述樣本與所述離子束或所述電子束之間的相互作用來引導從所述樣本發射的二次帶電粒子。

11.根據權利要求10所述的系統，其進一步包含二次帶電粒子探測器，所述二次帶電粒子探測器設置成接收從所述樣本發射并且由所述轉向電極引導的所述二次帶電粒子。

12.根據權利要求1所述的系統，其進一步包含：

光束源，其配置成沿著光子束軸在所述樣本位置處產生并聚焦光子束，并且其中所述反射器進一步定位和配置成接收由所述樣本位置處的樣本發射的光，所述光由所述樣本與所述光子束之間的相互作用產生，所述反射器進一步成形為將所述光反射到光檢測系統。

13.根據權利要求12所述的系統，其中從所述樣本發射的所述光對應于拉曼發射。

14.根據權利要求12所述的系統，其中從所述樣本發射的所述光對應于拉曼散射。

15.一種方法，其包含：

以第一顯微術模式操作顯微術系統，其中電子束與樣本位置處的樣本相互作用并且引起第一模式光子和電子發射，所述第一模式光子包括通過陰極發光過程產生的光子；以及

以第二顯微術模式操作所述顯微術系統，其中離子束與所述樣本位置處的樣本相互作用并且引起第二模式光子發射，所述第二模式光子包括通過離子誘導發光過程產生的光子和/或通過原子去激發過程產生的光子。