[發明專利]一種陸態動基座下的高動態多目標方位角校準方法有效
| 申請號: | 201811585770.1 | 申請日: | 2018-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN109579876B | 公開(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發明(設計)人: | 趙功偉;李永剛;張忠武;周玉堂;王鍇磊;王震;商秋芳;王蕾 | 申請(專利權)人: | 北京航天計量測試技術研究所;中國運載火箭技術研究院 |
| 主分類號: | G01C25/00 | 分類號: | G01C25/00 |
| 代理公司: | 核工業專利中心 11007 | 代理人: | 呂巖甲 |
| 地址: | 100076 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陸態動 基座 動態 多目標 方位角 校準 方法 | ||
本發明涉及一種陸態動基座下的高動態多目標方位角校準方法,慣性平臺Ⅰ、慣性平臺Ⅱ都放置在三軸搖擺臺的臺面上,多目標方位角校準系統放置在三軸搖擺臺旁邊的地面上,多目標方位角校準系統由北向基準鏡、電子經緯儀Ⅰ、電子經緯儀Ⅱ、電子經緯儀Ⅲ、同步控制單元、大口徑動態自準直儀Ⅰ和大口徑動態自準直儀Ⅱ組成;北向基準鏡用于在試驗室建立方位基準,電子經緯儀Ⅰ和電子經緯儀Ⅱ通過角度傳遞的方法來測量大口徑動態自準直儀Ⅰ的側面反光鏡的方位值。本發明應用于陸態動基座下測量多個目標的方位角,利用大口徑光電自準直儀進行自準直方位角同步測量,實現動基座條件下初始對準系統的方位角精度校準。
技術領域
本發明涉及一種陸態動基座下的高動態多目標方位角校準方法,應用于陸態動基座下測量多個目標的方位角,利用大口徑光電自準直儀進行自準直方位角同步測量,實現動基座條件下初始對準系統的方位角精度校準。
背景技術
某型號陸態動基座瞄準精度試驗中,多個慣性平臺安裝在大型的三軸搖擺臺臺面上。其中三軸搖擺臺模擬三自由度動態搖擺加單軸雙方向的往復直線運動,需要同時對多個慣性平臺的方位角精度進行校準。
傳統的動態測量方法是在被測目標上安裝靶標,利用全站儀跟蹤靶標。此方法利用成熟的全站儀可以實現,結構簡單,靶標跟蹤過程中易丟失目標,精度低,適用于低動態、低精度的動基座測量。
由于被校目標存在較大的搖擺線位移和直線運動,運動工況比較復雜,而多個被測目標安裝的方向位置不同,造成同時捕獲全部目標的概率較低。傳統方法中的全站儀口徑小,運動目標在視場停留時間很大,無法滿足此校準要求。
發明內容
本發明的目的在于提供一種陸態動基座下的高動態多目標方位角校準方法,以克服現有技術的不足。
為達到上述目的,本發明所采取的技術方案為:
一種陸態動基座下的高動態多目標方位角校準方法,
步驟一:慣性平臺Ⅰ、慣性平臺Ⅱ都放置在三軸搖擺臺的臺面上,多目標方位角校準系統放置在三軸搖擺臺旁邊的地面上,多目標方位角校準系統由北向基準鏡、電子經緯儀Ⅰ、電子經緯儀Ⅱ、電子經緯儀Ⅲ、同步控制單元、大口徑動態自準直儀Ⅰ和大口徑動態自準直儀Ⅱ組成;北向基準鏡用于在試驗室建立方位基準,電子經緯儀Ⅰ和電子經緯儀Ⅱ通過角度傳遞的方法來測量大口徑動態自準直儀Ⅰ的側面反光鏡的方位值,電子經緯儀Ⅰ和電子經緯儀Ⅲ通過角度傳遞的方法來測量大口徑動態自準直儀Ⅱ的側面反光鏡的方位值,同步控制單元用于實現多個大口徑動態自準直儀的同步信號發送和同步測試數據的接收存儲;大口徑動態自準直儀Ⅰ和大口徑動態自準直儀Ⅱ用于動態自準直角度測量,最終把標準大地方位角傳遞到被校瞄準基面上去;
步驟二:動態搖擺試驗前,完成大口徑動態自準直儀方位上和水平面的微調,大口徑動態自準直儀Ⅰ使其光學軸線能夠與慣性平臺Ⅰ的六面體的側面自準直;大口徑動態自準直儀Ⅱ處于預定位置,使其光學軸線能夠與慣性平臺Ⅱ的六面體的側面自準直;每一臺大口徑動態自準直儀的自準直儀圖像傳感器的光軸和側面反光鏡的法線的夾角在水平面的投影為90°;
步驟三:動態搖擺試驗前,用陀螺經緯儀測出北向基準鏡的法線的方位角,建立大地方位角度基準;通過電子經緯儀Ⅰ和電子經緯儀Ⅱ把該已知大地方位角傳遞至大口徑動態自準直儀Ⅰ的側面反光鏡上,大口徑動態自準直儀Ⅰ的固定的初始方位角A1;電子經緯儀Ⅰ和電子經緯儀Ⅲ通過角度傳遞的方法來測量大口徑動態自準直儀Ⅱ的側面反光鏡的方位值,得到動態自準直儀Ⅱ的固定的初始方位角B1;
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