[發(fā)明專利]一種太陽(yáng)能復(fù)合封裝板的制備工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811584327.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111430500A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 逯平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 漢能移動(dòng)能源控股集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L31/048 |
| 代理公司: | 北京華夏泰和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11662 | 代理人: | 孟德棟 |
| 地址: | 100107 北京市朝陽(yáng)*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 太陽(yáng)能 復(fù)合 封裝 制備 工藝 | ||
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能應(yīng)用領(lǐng)域,具體涉及一種太陽(yáng)能復(fù)合封裝板的制備工藝,其包括如下步驟:將透光基材層清洗、干燥后待用;在所述透光基材層的第一表面制備透光水汽阻隔改性層;在所述透光水汽阻隔改性層外表面制備透光水汽阻隔層。本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題在于克服現(xiàn)有技術(shù)中太陽(yáng)能復(fù)合封裝板水汽阻隔率低的問(wèn)題,進(jìn)而提供一種水汽阻隔率更高的太陽(yáng)能復(fù)合封裝板的制備工藝。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能應(yīng)用領(lǐng)域,具體涉及一種太陽(yáng)能復(fù)合封裝板的制備工藝。
背景技術(shù)
太陽(yáng)能電池作為太陽(yáng)電池的一個(gè)新品種,技術(shù)先進(jìn)、性能優(yōu)良、用途廣泛,越來(lái)越受到人們的重視。隨著人們生活品質(zhì)的提高和需求,對(duì)移動(dòng)電源的需求也越來(lái)越大,太陽(yáng)能移動(dòng)電源由于綠色環(huán)保、輕便柔軟、攜帶方便,逐漸成為最符合現(xiàn)代生活的移動(dòng)電源。
太陽(yáng)能組件一般包括陽(yáng)光側(cè)的前板、發(fā)電組件和更靠近安裝側(cè)的背板,即通過(guò)前板和背板兩塊封裝板將發(fā)電組件保護(hù)封裝在里面。由于太陽(yáng)能組件的應(yīng)用環(huán)境特殊性,要求太陽(yáng)能復(fù)合封裝板(尤其是前板)具有一定的透光性、耐磨耐劃、耐老化性、絕緣性、自潔、阻燃性等特性外,同時(shí)還要有高的水汽阻隔的效果。
中國(guó)專利CN106784097A公開(kāi)了一種高阻水透明太陽(yáng)能組件用背板和前板,其包括高耐候透明薄膜層,耐候透明黏劑層、透明基體層和透明透光耐候涂層,所述透明基體層的一側(cè)通過(guò)耐修改透明膠黏劑層與高耐候透明薄膜層粘結(jié),所述透明基體層的另一側(cè)為透明透光耐候涂層,所述透明透光耐候涂層用于粘結(jié)封裝膠膜。即現(xiàn)有技術(shù)該專利文件中公開(kāi)了該結(jié)構(gòu)達(dá)到的整體水汽阻隔性能為10-2g/m2.D,即通過(guò)上述方案,能達(dá)到整體水汽阻隔率為10-2g/m2.D,但該水汽阻隔率仍滿足不了日益增長(zhǎng)的用戶需求。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題在于克服現(xiàn)有技術(shù)中太陽(yáng)能復(fù)合封裝板水汽阻隔率低的問(wèn)題,進(jìn)而提供一種水汽阻隔率更高的太陽(yáng)能復(fù)合封裝板的制備工藝。
本發(fā)明所述太陽(yáng)能復(fù)合封裝板的制備工藝,其包括如下步驟:
將透光基材層清洗、干燥后待用;
在所述透光基材層的第一表面制備透光水汽阻隔改性層;
在所述透光水汽阻隔改性層外表面制備透光水汽阻隔層。
在所述透光基材層的第一表面制備透光水汽阻隔改性層的步驟包括:在所述透光基材層的第一表面涂布透光水汽阻隔改性濕膜,經(jīng)高溫干燥后形成所述透光水汽阻隔改性層。
在所述透光水汽阻隔改性層外表面制備透光水汽阻隔層的步驟包括:在所述透光水汽阻隔改性層外表面采用原子層沉積工藝或化學(xué)氣相沉積或磁控濺射工藝制備所述透光水汽阻隔層。
所述水汽阻隔層為氧化硅、氮化硅和三氧化二鋁中的一種或兩種以上;和/或,所述透光基材層的厚度50-200μm;和/或,所述透光水汽阻隔改性層的厚度1-15μm;和/或,所述透光水汽阻隔層的厚度0.1-1μm。
在所述透光基材層的第二表面制備透光耐候?qū)印?/p>
在所述透光基材層的第二表面制備透光耐候?qū)拥牟襟E包括:在所述透光基材層的第二表面采用噴涂或刮涂或輥涂方式制備透光耐候濕膜,干燥后得到透光耐候涂層。
所述透光耐候涂層為含氟類涂層。
在所述透光基材層的第二表面制備透光耐候?qū)拥牟襟E包括:
將液態(tài)硅膠混合液攪拌均勻后,在所述第二表面采用噴淋或刮涂或輥涂的方式制備第一透光硅膠濕膜,干燥后得到第一透光硅膠層;
在所述第一透光硅膠層外表面上粘貼透光耐候薄膜,并經(jīng)層壓機(jī)抽真空后溫度50-120℃,時(shí)間1-5min進(jìn)行層壓粘接復(fù)合制得透光耐候薄膜層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





