[發明專利]光學構件的包裝物的制造方法有效
| 申請號： | 201811583823.6 | 申請日： | 2018-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN109959984B | 公開（公告）日： | 2023-06-23 |
| 發明（設計）人： | 村山俊介;中原步夢;中田美惠 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02B1/14;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 蔣亭 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 構件 包裝 制造 方法 | ||
1.一種光學構件的包裝物的制造方法，其特征在于，包括：
工序A，在偏振片的單面或雙面借助粘接劑層設置保護膜，從而制作偏振膜；
工序B，在所述偏振膜上至少設置粘合劑層及表面保護膜，從而制作光學構件；以及
工序C，將所述光學構件進行包裝，
所述包裝時的溫度為15℃～25℃，所述包裝時的相對濕度為45％Rh～65％Rh，
在將從將所述包裝物拆開包裝到將所述光學構件貼合于單元基板為止的所述光學構件中的偏振膜的平衡水分率設為X重量％時，
在所述工序C中，以使所述光學構件中的偏振膜的水分率Y重量％不小于所述平衡水分率X重量％的方式調整所述水分率Y重量％，
所述制造方法還包括：工序D，在從所述工序B到所述工序C為止之間，以使所述光學構件中的偏振膜的水分率Z重量％不小于所述平衡水分率X重量％的方式調整所述水分率Z重量％，
所述工序D的加濕處理時的溫度為15℃～25℃，所述工序D的加濕處理時的相對濕度為45％Rh～65％Rh。
2.根據權利要求1所述的光學構件的包裝物的制造方法，其中，在所述工序C中，以使所述水分率Y重量％與所述平衡水分率X重量％之差為0重量％～1重量％的方式調整所述水分率Y重量％。
3.根據權利要求1或2所述的光學構件的包裝物的制造方法，其中，在所述工序C中，通過對所述光學構件進行加濕來調整所述水分率Y重量％。
4.根據權利要求1所述的光學構件的包裝物的制造方法，其中，在所述工序D中，以使所述水分率Z重量％與所述平衡水分率X重量％之差為0重量％～1重量％的方式調整所述水分率Z重量％。
5.根據權利要求1或4所述的光學構件的包裝物的制造方法，其中，在所述工序D中，通過對所述光學構件進行加濕來調整所述水分率Z重量％。
6.根據權利要求1或2所述的光學構件的包裝物的制造方法，其中，從將所述包裝物拆開包裝到將所述光學構件貼合于單元基板為止的操作在潔凈室內進行。
7.根據權利要求6所述的光學構件的包裝物的制造方法，其中，所述潔凈室被調整為處于15℃～25℃的溫度范圍內的一定溫度且處于45％Rh～65％Rh的相對濕度內的一定濕度。
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