[發(fā)明專利]基于波長調(diào)制技術(shù)的痕量氣體濃度場分布探測方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811583428.8 | 申請日: | 2018-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN111351769A | 公開(公告)日: | 2020-06-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 夏暉暉;李明星;楊晨光;許振宇;陳兵;闞瑞峰;胡邁 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學院合肥物質(zhì)科學研究院 |
| 主分類號: | G01N21/39 | 分類號: | G01N21/39;G01N21/01 |
| 代理公司: | 武漢東喻專利代理事務所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 李佑宏 |
| 地址: | 230031 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 波長 調(diào)制 技術(shù) 痕量 氣體 濃度 分布 探測 方法 | ||
1.一種基于波長調(diào)制光譜技術(shù)的大范圍痕量氣體濃度場分布探測方法,其特征在于,
采用的探測裝置包括數(shù)據(jù)采集處理單元(7)、工控機(8)及多套組件,每套組件均包括結(jié)構(gòu)和功能均相同的信號發(fā)生單元(1、13)、激光控制單元(2、12)、可調(diào)諧半導體激光器(3、11)、平面反射鏡(4、10)、收發(fā)一體水平掃描主機(5、9);多套組件中的各收發(fā)一體水平掃描主機(5、9)分別位于探測區(qū)域(14)的不同方位;
所述探測方法包括如下步驟:
(1)、首先根據(jù)待測氣體的種類,從高分辨率分子光譜數(shù)據(jù)庫中選擇相應的測量吸收譜線,確定其中心頻率v0,線強S(T),低態(tài)能級值E″;
(2)、針對已確定的目標氣體吸收測量譜線,以可調(diào)諧半導體激光器(3、11)作為檢測光源,同時調(diào)節(jié)激光器控制單元(2、12)的溫度和電流,使可調(diào)諧半導體激光器(3、11)的輸出激光頻率穩(wěn)定在v0預定范圍內(nèi);
(3)、信號發(fā)生單元(1、13)產(chǎn)生低頻鋸齒信號和高頻正弦信號,經(jīng)加法器同時輸入到激光控制單元(2、12)中,對可調(diào)諧半導體激光器(3、11)出光頻率進行調(diào)制;
(4)、將可調(diào)諧半導體激光器(3、11)發(fā)出的經(jīng)調(diào)制的激光準直后經(jīng)過平面反射鏡(4、10)反射到達收發(fā)一體水平掃描主機(5、9),收發(fā)一體水平掃描主機(5、9)實現(xiàn)指定角度的高精度自動旋轉(zhuǎn),經(jīng)收發(fā)一體水平掃描主機(5、9)發(fā)射出去的激光被探測區(qū)域(14)邊界上的多個不同的角反射鏡(6)接收,并原路返回到達第一收發(fā)一體水平掃描主機(5)中的光電探測器;
其他的每套組件同樣執(zhí)行上述步驟(1)-(4);
(5)、將多個不同收發(fā)一體水平掃描主機(5、9)中接收到的調(diào)制吸收信號輸送到數(shù)據(jù)采集處理單元(7),進行2f/1f信號解調(diào),根據(jù)波長調(diào)制吸收光譜技術(shù)的實驗室標定結(jié)果和2f/1f信號解調(diào)結(jié)果輸出待測氣體濃度數(shù)據(jù),如下式(1)所示:
X=k·V2f/1f (1)
其中,V2f/1f為測量得到的歸一化2f/1f諧波信號,k為標定系數(shù);
(6)、對探測區(qū)域(14)進行網(wǎng)格離散化操作,某一條探測光束下目標吸收譜線的積分吸光度表示為其經(jīng)過的所有n個網(wǎng)格的積分吸光度之和,如下式(2)所示:
PXS(T)L=PS(T)x1l1+PS(T)x2l2+…+PS(T)xnln (2)
其中,P是壓強,X是單光路測量的路徑平均濃度,S(T)是目標譜線的吸收線強,L是激光束被探測區(qū)域邊界截得的幾何長度,xn是探測區(qū)域劃分的網(wǎng)格內(nèi)的氣體濃度,ln是激光束被離散網(wǎng)格截得的幾何長度;
聯(lián)立(1)式和(2)式,推導出歸一化二次諧波信號2f/1f與各個離散網(wǎng)格下組分濃度的關系式,如下式(3)所示:
(7)、根據(jù)至少兩個收發(fā)一體水平掃描主機獲得的不同方位下不同角度處的波長調(diào)制吸收光譜,解調(diào)得到2f/1f信號后,再結(jié)合代數(shù)迭代算法求解以網(wǎng)格內(nèi)的氣體濃度為未知數(shù)的線性方程組,在工控機(8)中反演并畫出大范圍濃度場分布圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的基于波長調(diào)制光譜技術(shù)的大范圍痕量氣體濃度場分布探測方法,其特征在于:
在步驟(3)中,經(jīng)調(diào)制后的激光頻率和激光強度分別按如下兩式確定:
其中,t是時間,是低頻鋸齒掃描下的激光中心頻率,隨時間變化,a[cm-1]為調(diào)制深度,fm[Hz]為調(diào)制頻率,是激光中心頻率處的平均強度,i0和i2分別是歸一化后的線性和非線性強度調(diào)制幅度,是頻率調(diào)制和強度調(diào)制的線性相移,是頻率調(diào)制和強度調(diào)制的非線性相移。
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