[發(fā)明專利]載板和鍍膜設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811583129.4 | 申請日: | 2018-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN109628905A | 公開(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈良 | 申請(專利權(quán))人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 羅建民;杜丹丹 |
| 地址: | 100176 北京市北京經(jīng)濟*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍膜設(shè)備 電池片 鏤空槽 硅片 制備 鍍膜過程 載板 雙面太陽能電池片 工作效率 加工部件 空氣暴露 支撐構(gòu)件 電性能 破真空 翻轉(zhuǎn) 膜層 重復(fù) 污染 應(yīng)用 | ||
本公開提供一種載板和鍍膜設(shè)備,所述載板上設(shè)置有至少一個鏤空槽,每個所述鏤空槽內(nèi)均設(shè)置有支撐構(gòu)件以使得待加工部件能夠放置在所述鏤空槽內(nèi)。應(yīng)用本公開所述載板及鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中無需翻轉(zhuǎn)硅片,也就無需重復(fù)破真空,從而避免硅片在鍍膜過程中受空氣暴露影響,減少了硅片受污染的幾率,而且改善了因現(xiàn)有制備雙面太陽能電池片工序繁瑣而帶來的電池片制備效率低下、電性能不良等問題,不僅能改善電池片的膜層質(zhì)量,還能減少電池片制備時間,從而提高工作效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及鍍膜工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于鍍膜加工的載板,以及一種鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)
受到現(xiàn)有鍍膜載板結(jié)構(gòu)的限制,鍍膜設(shè)備生產(chǎn)雙面太陽能電池片時所采用的鍍膜工藝為單面鍍膜工藝。具體地,鍍膜設(shè)備包括多個腔室,其中每個腔室頂部均設(shè)置有相應(yīng)的靶材,相鄰腔室間由真空門隔開,腔室外設(shè)置有自動翻片機。當(dāng)硅片在一個腔室內(nèi)鍍上相應(yīng)膜層后,需要打開真空門以破真空,再通過自動翻片機將硅片翻轉(zhuǎn)并放入相鄰下一腔室內(nèi),然后對該相鄰下一腔室抽真空處理,并鍍上相應(yīng)膜層,以此類推,直至雙面太陽能電池片制備完成。
可以看出,現(xiàn)有雙面太陽能電池片的制備工藝中,為了翻轉(zhuǎn)硅片而需要重復(fù)破真空,使得硅片在整個制程頻繁受空氣暴露影響;而且,不同膜層間的沉積因其本身的化學(xué)特性,必須往復(fù)翻片后按序制備,繁雜且耗時長,由此極易導(dǎo)致硅片表面出現(xiàn)機械損傷或者受污染。
發(fā)明內(nèi)容
為了至少部分解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的為翻轉(zhuǎn)硅片而重復(fù)破真空的技術(shù)問題而完成了本公開。
解決本公開技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
本公開提供一種載板,用于鍍膜加工,所述載板上設(shè)置有至少一個鏤空槽,每個所述鏤空槽內(nèi)均設(shè)置有支撐構(gòu)件以使得待加工部件能夠放置在所述鏤空槽內(nèi)。
本公開中,各個硅片(或者其他類型的基板)分別放入載板內(nèi)的各個鏤空槽內(nèi)之后,因受到鏤空槽內(nèi)支撐構(gòu)件的支撐而不會從鏤空槽中掉出,同時還能使硅片的上、下表面的絕大部分露出,則利用該載板制備雙面太陽能電池片時,可采用雙面鍍膜工藝,無需翻轉(zhuǎn)硅片和重復(fù)破真空,就能在一個鍍膜腔室里完成硅片的雙面鍍膜,即在硅片的上、下表面鍍上所需材質(zhì)和厚度的膜層。可以看出,由于在鍍膜過程中無需翻轉(zhuǎn)硅片,也就無需重復(fù)破真空,從而避免硅片在鍍膜過程中受空氣暴露影響,減少了硅片受污染的幾率,而且改善了因現(xiàn)有制備雙面太陽能電池片工序繁瑣而帶來的電池片制備效率低下、電性能不良等問題,不僅能改善電池片的膜層質(zhì)量,還能減少電池片制備時間,從而提高工作效率。
可選地,所述支撐構(gòu)件是從所述鏤空槽內(nèi)壁并向所述鏤空槽中心延伸的突出部。
可選地,所述突出部為設(shè)置在所述鏤空槽內(nèi)壁底部的臺階狀構(gòu)件。
可選地,所述臺階狀構(gòu)件包括與所述鏤空槽的內(nèi)壁相接的過渡面,以及與所述過渡面相接的斜坡面;所述斜坡面向接近于所述鏤空槽中心的方向延伸。
可選地,所述載板包括外邊框,以及設(shè)置在所述外邊框內(nèi)部的多個橫條和多個縱條;所述多個橫條和所述多個縱條交叉設(shè)置以形成所述多個鏤空槽。
可選地,所述外邊框、所述多個橫條和所述多個縱條一體成型;或者,所述橫條的兩端分別與所述外邊框的兩個相對內(nèi)壁活動連接,所述縱條的兩端分別與所述外邊框的另外兩個相對內(nèi)壁活動連接,每個所述橫條和與之交叉的所述縱條活動連接。
可選地,所述載板包括外邊框,以及設(shè)置在所述外邊框內(nèi)部的多個縱條;所述外邊框與所述多個縱條分隔成所述多個鏤空槽。
可選地,所述外邊框和所述多個縱條一體成型;或者,
所述縱條的兩端分別與所述外邊框的兩個相對內(nèi)壁活動連接。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





