[發(fā)明專利]一種多波段分時段光學曝光裝置及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811579232.1
• 申請日: 2018-12-24
• 公開（公告）號: CN109725503B
• 公開（公告）日: 2021-03-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳海巍;宋志尚;李顯杰;錢聰;程珂;徐敏;王偉;王軍華;茆曉華;吳長江;劉世林;袁征;蒯多杰
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫影速半導體科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05K3/28
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211
• 代理人: 張勇

1.一種多波段光學曝光裝置，其特征在于，所述多波段光學曝光裝置包括至少兩組曝光子系統(tǒng)，每組曝光子系統(tǒng)匹配不同波長范圍的光源和對應不同波長范圍的空間光調(diào)制器，每組曝光子系統(tǒng)根據(jù)各自所匹配的波長的光源對待曝光基板進行曝光時所需要的時間間隔設(shè)置在多波段光學曝光裝置掃描方向上不同的位置處。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波段光學曝光裝置，其特征在于，所述每組曝光子系統(tǒng)的曝光輸出能量可調(diào)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多波段光學曝光裝置，其特征在于，所述每組曝光子系統(tǒng)至少包括兩路光路。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多波段光學曝光裝置，其特征在于，所述多波段光學曝光裝置還包括運動平臺；所述運動平臺用于實現(xiàn)待曝光基板在單方向上、平面上或者空間位置上的移動。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多波段光學曝光裝置，其特征在于，所述多波段光學曝光裝置還包括標定結(jié)構(gòu)，所述標定結(jié)構(gòu)用于對不同曝光子系統(tǒng)以及各曝光子系統(tǒng)中的各個光路進行單方向上、平面上或者空間位置上進行標定以實現(xiàn)不同的曝光子系統(tǒng)對待曝光基板曝光時形成的圖形重疊在同一位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多波段光學曝光裝置，其特征在于，所述標定結(jié)構(gòu)包括至少兩個用來標定的相機，所述用來標定的相機的數(shù)目根據(jù)每組曝光子系統(tǒng)的光路的數(shù)量以及各光路間距確定。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多波段光學曝光裝置，其特征在于，所述每組曝光子系統(tǒng)還包括照明光路和成像光路，所述照明光路用于將不同波長范圍的光源所發(fā)出的光進行均勻化整形，以滿足所述空間光調(diào)制器的照明需求；所述成像光路用于將所述空間光調(diào)制器所顯示的圖形按照預定比例投放至待曝光基板上。

8.一種多波段光學曝光方法，其特征在于，所述方法應用于權(quán)利要求1-7任一所述的多波段光學曝光裝置，所述方法包括：

根據(jù)待曝光基板曝光時所需波長范圍選擇曝光過程中所需的曝光子系統(tǒng)；

將待曝光基板送至位于多波段光學曝光裝置掃描方向上不同的位置處的不同的曝光子系統(tǒng)進行曝光；

每組曝光子系統(tǒng)匹配不同波長范圍的光源和對應不同波長范圍的空間光調(diào)制器，每組曝光子系統(tǒng)根據(jù)各自所匹配的波長的光源對待曝光基板進行曝光時所需要的時間間隔設(shè)置在多波段光學曝光裝置掃描方向上不同的位置處。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述將待曝光基板送至位于多波段光學曝光裝置掃描方向上不同的位置處的不同的曝光子系統(tǒng)進行曝光之前，還包括：

確定每組曝光子系統(tǒng)曝光時的曝光輸出能量和采用標定結(jié)構(gòu)對不同曝光子系統(tǒng)以及各曝光子系統(tǒng)中的各個光路進行單方向上、平面上或者空間位置上的標定以實現(xiàn)不同的曝光子系統(tǒng)對待曝光基板曝光時形成的圖形重疊在同一位置。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：根據(jù)每組曝光子系統(tǒng)的光路的數(shù)量以及各光路間距確定標定結(jié)構(gòu)所包括的用來標定的相機的數(shù)目。