[發明專利]一種鍍膜設備、鍍膜控制裝置和方法

在審

• 申請號: 201811579214.3
• 申請日: 2018-12-21
• 公開（公告）號: CN109652777A
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發明（設計）人: 潘旋
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/54
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 朱靜謙

本發明提供了一種鍍膜設備、鍍膜控制裝置和方法，其中鍍膜控制裝置包括：至少一個擋片，用于接收入射粒子流并產生電流信號，擋片與鍍膜窗口對應設置；控制模塊，用于根據電流信號和預設目標參數輸出對應的補償信號；傳動模塊，與擋片連接，用于根據補償信號調整對應的擋片的位置，以調整擋片對應的鍍膜窗口大小，使得擋片對應的鍍膜區域的入射粒子流滿足預設目標參數；其中，預設目標參數為鍍膜區域的入射粒子流的目標數。通過本發明實施例提供的方案，實現了鍍膜過程中鍍膜窗口擋片位置實時、連續和自動化調整，從而使得靶材在垂直方向上濺射的均勻性，準確性和時效性大大增加。

技術領域

本發明屬于薄膜發電技術領域，具體涉及一種鍍膜設備、鍍膜控制裝置和方法。

背景技術

作為目前最先進最有發展前景的薄膜發電技術之一，其具有輕薄的特點，基于玻璃、鋼和塑料等材料基底，可制成剛性或柔性的太陽能組件。

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)真空濺射鍍膜設備具有沉積快、膜厚均勻、可大規模連續作業的優點，在太陽能薄膜電池生產工藝中，背電極Mo、上電極TCO或其他一些功能膜層都會優先考慮PVD技術的使用，可以說PVD真空濺射鍍膜設備在太陽能薄膜電池生產線上是必不可少的部分。

現有PVD真空濺射鍍膜設備在濺射腔室的靶材與玻璃基片之間安裝多個距離可調節的鍍膜窗口，通過手動的將鍍膜窗口擋片的位置調整至一個預設位置，對靶材濺射出的粒子的遮擋效果進行控制，以此來補償靶材在垂直方向上的濺射不均勻性。由于鍍膜窗口位置需要手動調整，誤差較大，且每次調整只能在常壓條件下進行，效率非常低。

發明內容

為此，本發明提出了一種鍍膜設備、鍍膜控制裝置和方法，以解決鍍膜窗口位置需要手動調整，誤差較大，且每次調整只能在常壓條件下進行，效率非常低的問題。

根據第一方面，本發明實施例提供了一種鍍膜控制裝置，包括：至少一個擋片，用于接收入射粒子流并產生電流信號，擋片與鍍膜窗口對應設置；控制模塊，用于根據電流信號和預設目標參數輸出對應的補償信號；傳動模塊，與擋片連接，用于根據補償信號調整對應的擋片的位置，以調整擋片對應的鍍膜窗口大小，使得擋片對應的鍍膜區域的入射粒子流滿足預設目標參數；其中，預設目標參數為鍍膜區域的入射粒子流的目標數。

可選地，控制模塊包括：補償信號發生器，用于根據擋片位于當前位置時產生的電流信號，確定擋片當前位置下對應的鍍膜區域的入射粒子流的數目；根據擋片當前位置下對應的鍍膜區域的入射粒子流的數目和預設目標參數，確定擋片的目標位置；根據擋片的目標位置和擋片的當前位置，生成并輸出用以調整擋片位置的補償信號。

可選地，控制模塊包括：信號轉換器，用于接收至少一個擋片產生的電流信號，并將電流信號轉變為對應的數字信號；相應地，補償信號發生器用于根據擋片位于當前位置時所對應的數字信號，確定擋片當前位置下對應的鍍膜區域的入射粒子流的數目。

可選地，補償信號發生器包括：第一處理單元，用于根據擋片位于當前位置時產生的電流信號和第一預設關系，確定擋片當前位置下對應的鍍膜區域的入射粒子流的數目；其中，第一預設關系用于表征擋片在不同位置下所產生的電流信號與擋片對應的鍍膜區域的入射粒子數的數目之間的對應關系；第二處理單元，用于根據預設目標參數和擋片當前位置下對應的鍍膜區域的入射粒子流的數目，確定擋片的目標阻擋量；根據擋片的目標阻擋量和第二預設關系，確定擋片的目標位置；其中，第二預設關系用于表征擋片在不同擋片位置的變化與擋片的阻擋量的變化之間的對應關系；補償單元，用于根據擋片的目標位置和擋片的當前位置，生成并輸出用以調整擋片位置的補償信號。

可選地，傳動模塊包括：至少一個傳動件，與擋片對應一一配合，用于調整擋片的位置；至少一個電機，與傳動件對應連接，用于根據補償信號驅動傳動件動作。

可選地，控制模塊還包括：信號收發器，用于將補償信號傳輸至電機，以控制傳動件執行相應的動作。