[發(fā)明專利]OLED基板、OLED基板的制作方法及柔性顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811577451.6 | 申請日: | 2018-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN109768180A | 公開(公告)日: | 2019-05-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邱繼毅;劉勝發(fā) | 申請(專利權(quán))人: | 華映科技(集團(tuán))股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414 | 代理人: | 李艷麗 |
| 地址: | 350000 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濾光層 像素區(qū)域 子像素區(qū)域 像素定義層 柔性顯示裝置 襯底基板 第一電極 制作 通孔 發(fā)光效率 濾光材料 色偏 暴露 | ||
1.一種OLED基板,其特征在于,包括襯底基板、間隔設(shè)于所述襯底基板上的多個第一電極,以及設(shè)于所述襯底基板與多個所述第一電極上的像素定義層;所述像素定義層具有分別對應(yīng)暴露多個部分所述第一電極的多個通孔,所述襯底基板包括多個像素區(qū)域,每一所述像素區(qū)域包括第一子像素區(qū)域、第二子像素區(qū)域以及第三子像素區(qū)域,多個所述通孔分別位于多個子像素區(qū)域內(nèi);所述像素定義層包括分別對應(yīng)所述第一子像素區(qū)域、所述第二子像素區(qū)域以及所述第三子像素區(qū)域的第一濾光層、第二濾光層以及第三濾光層,所述第一濾光層采用第一顏色的濾光材料制作,所述第二濾光層采用第二顏色的濾光材料制作,所述第三濾光層采用第三顏色的濾光材料制作。
2.如權(quán)利要求1所述的OLED基板,其特征在于,所述OLED基板還包括設(shè)于所述通孔內(nèi)的發(fā)光功能層與設(shè)于所述發(fā)光功能層上的第二電極,所述發(fā)光功能層包括依次設(shè)于所述第一電極上空穴注入層、空穴傳輸層、電子阻擋層、發(fā)光層、空穴阻擋層、電子傳輸層以及電子注入層;位于所述第一電極上的所述像素定義層的高度的計算方式如下:
其中,H為位于所述第一電極上的所述像素定義層的高度,HI為空穴注入層的厚度,HT為空穴傳輸層的厚度,HB為電子阻擋層的厚度,d為通孔的寬度,θ為初始色偏角度。
3.如權(quán)利要求1所述的OLED基板,其特征在于,所述像素定義層的材料為光阻材料,所述第一濾光層為紅色濾光層,所述第二濾光層為綠色濾光層,所述第三濾光層為藍(lán)色濾光層。
4.一種OLED基板的制作方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供襯底基板,所述襯底基板包括多個像素區(qū)域,每一所述像素區(qū)域包括第一子像素區(qū)域、第二子像素區(qū)域以及第三子像素區(qū)域;
在所述襯底基板上形成間隔設(shè)置的多個第一電極;以及
在所述襯底基板與多個所述第一電極上形成像素定義層,所述像素定義層具有分別對應(yīng)暴露多個部分所述第一電極的多個通孔,多個所述通孔分別位于多個所述子像素區(qū)域內(nèi),所述像素定義層包括分別對應(yīng)所述第一子像素區(qū)域、所述第二子像素區(qū)域以及所述第三子像素區(qū)域的第一濾光層、第二濾光層以及第三濾光層,所述第一濾光層采用第一顏色的濾光材料制作,所述第二濾光層采用第二顏色的濾光材料制作,所述第三濾光層采用第三顏色的濾光材料制作。
5.如權(quán)利要求4所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,還包括以下步驟:
在每一所述通孔中形成位于所述第一電極上的發(fā)光功能層,所述發(fā)光功能層包括依次設(shè)于所述第一電極上空穴注入層、空穴傳輸層、電子阻擋層、發(fā)光層、空穴阻擋層、電子傳輸層以及電子注入層;
在所述發(fā)光功能層上形成第二電極。
6.如權(quán)利要求5所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,位于所述第一電極上的所述像素定義層的高度的計算方式如下:
其中,H為位于所述第一電極上的所述像素定義層的高度,HI為空穴注入層的厚度,HT為空穴傳輸層的厚度,HB為電子阻擋層的厚度,d為通孔的寬度,θ為初始色偏角度。
7.如權(quán)利要求4所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,所述像素定義層的材料為光阻材料,所述第一濾光層為紅色濾光層,所述第二濾光層為綠色濾光層,所述第三濾光層為藍(lán)色濾光層。
8.如權(quán)利要求7所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,在所述襯底基板與多個所述第一電極上形成像素定義層具體步驟為:在所述襯底基板與多個所述第一電極上涂布光阻材料得到光阻層,對所述光阻層進(jìn)行圖案化處理,從而得到所述像素定義層。
9.如權(quán)利要求8所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,對所述光阻層進(jìn)行圖案化處理的步驟具體為:采用光罩對所述光阻層進(jìn)行曝光與顯影處理,從而得到所述像素定義層。
10.一種柔性顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至3任一項所述的OLED基板。
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