[發(fā)明專利]一種平衡磁場濺射鍍膜裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811576906.2
• 申請日: 2018-12-23
• 公開（公告）號: CN109371372A
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 申屠江民;祝宇;龔陽
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江萊寶科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種平衡磁場濺射鍍膜裝置，包括：水平設(shè)置的陰極靶材(2)、磁鋼(1)與基片(3)，所述陰極靶材(2)為長方形板狀結(jié)構(gòu)，所述基片(3)設(shè)在陰極靶材(2)上方50-100mm的范圍內(nèi)，陰極靶材(2)下方設(shè)置有磁鋼(1)，所述磁鋼(1)包括磁鋼座與磁極，所述磁鋼(1)在陰極靶材(2)上表面形成拱形磁場；

其特征在于，在所述磁極下方設(shè)置有導(dǎo)磁塊(4)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，磁鋼(1)的兩端設(shè)置有兩條N極的磁極,在磁鋼(1)的正中間位置設(shè)有一條S極的磁極，所述導(dǎo)磁塊(4)設(shè)置于所述S極磁極的正下方和磁鋼(1)兩端的N極磁極的正下方。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁鋼(1)的寬度為150mm，所述靶材的寬的跨度為200mm，所述N極磁極在靶面上的投影的寬度為10mm，所述S極磁極在靶面上的投影的寬度為20mm，所述N極磁極與S極磁極高度均為30mm，所述導(dǎo)磁塊(4)為12mm厚的鐵塊，且靶面上方平行磁場的強(qiáng)度為480-550高斯。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁鋼(1)長的跨度為1114mm，所述兩端的N極磁極長的跨度設(shè)置為1091mm，縮減S極的磁極長的跨度為1044mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁鋼(1)下方連有一雙向電機(jī)，所述雙向電機(jī)移動距離為+/-18mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁場采用雙跑道結(jié)構(gòu)，在磁鋼(1)的兩端設(shè)置為兩條N極的磁極,在磁鋼(1)的正中間位置另外設(shè)計(jì)為一條N極的磁極，在所述正中間位置與兩端位置的N極的正中間另外再設(shè)兩條S極電極，所述導(dǎo)磁塊(4)設(shè)置于所述S極磁極的正下方和磁鋼(1)四周邊緣位置的正下方。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁鋼(1)的寬度為150mm，所述靶材的寬的跨度為200mm，所述兩端的N極磁極在靶面上的投影的寬度為10mm，所述S極磁極與中間位置的N極在靶面上的投影的寬度為20mm，所述N極磁極與S極磁極高度均為30mm，所述磁鋼下方設(shè)有導(dǎo)磁塊，所述導(dǎo)磁塊(4)為12mm厚的鐵塊，且靶面上方平行磁場的強(qiáng)度為480-550高斯。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁鋼(1)下方連有一雙向電機(jī)，所述雙向電機(jī)移動距離為+/-18mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的平衡磁場濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述磁鋼(1)長的跨度為1114mm，所述兩端的N極磁極長的跨度設(shè)置為1091mm，縮減S極與中間的N極磁極長的跨度為1044mm。