[發明專利]N-丙烯酸咔唑及其作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用

有效

• 申請號: 201811571817.9
• 申請日: 2018-12-21
• 公開（公告）號: CN109776391B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 朱新海;賈夢影;萬一千
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: C07D209/86
• 分類號: C07D209/86;G01N27/62
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 方燕;莫瑤江

1.N-丙烯酸咔唑，其特征在于，其結構如式(1)所示：

2.權利要求1所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，所述的聚合物的分子量為100～210000Da。

3.根據權利要求2所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，所述的聚合物選自聚乙二醇、聚丙二醇、聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚醚、聚醚胺、聚苯乙烯和聚乙烯吡咯烷酮中的一種。

4.根據權利要求2所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，具體分析測試步驟如下：

(1)配置含有所述的N-丙烯酸咔唑的基質溶液；配置含有待測聚合物的待測聚合物溶液；配置離子化試劑溶液；

(2)將基質溶液和待測物溶液，或將基質溶液、待測聚合物溶液和離子化試劑溶液使用干點法或薄層法點在MALDI質譜配套的靶板上，自然晾干形成均勻結晶膜進行MALDI-TOF質譜分析。

5.根據權利要求4所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，步驟(1)中配置含有所述的N-丙烯酸咔唑的基質溶液具體步驟是將N-丙烯酸咔唑溶于基質溶劑中得到N-丙烯酸咔唑質量濃度為0.1-20mg/mL的基質溶液，所述的基質溶劑選自四氫呋喃、乙腈、甲醇、乙醇、異丙醇、氯仿和二氯甲烷中的一種以上。

6.根據權利要求4所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，步驟(1)中配置含有待測聚合物的待測聚合物溶液具體步驟是將待測聚合物溶于待測物溶劑中得到待測聚合物的質量濃度為0.001-10mg/mL的待測聚合物溶液，所述的待測物溶劑選自水、四氫呋喃、乙腈、甲醇、乙醇、異丙醇、氯仿和二氯甲烷中的一種以上。

7.根據權利要求4所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，步驟(1)中離子化試劑溶液為三氟乙酸鈉的甲醇溶液、氯化鉀甲醇溶液、氯化鈉水溶液、三氟乙酸銀的四氫呋喃溶液或醋酸鈉水溶液，所述的離子化試劑溶液中金屬鹽的質量濃度為0.001-1mg/mL。

8.根據權利要求4所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，所述的基質溶液中N-丙烯酸咔唑的質量濃度為1-10mg/mL，所述的待測聚合物溶液中待測聚合物的質量濃度為0.01-0.5mg/mL，所述的離子化試劑溶液中金屬鹽的質量濃度為0.01-0.1mg/mL。

9.根據權利要求4所述的N-丙烯酸咔唑作為基質在基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜分析聚合物中的應用，其特征在于，所述的干點法的具體步驟是，將基質溶液和待測聚合物溶液等體積混合得混合溶液，或者將基質溶液、待測聚合物溶液和離子化試劑溶液等體積混合得混合溶液，取0.5-1μL的混合溶液點在MALDI質譜配套的靶板上；所述的薄層法的具體步驟是，分別取基質溶液0.5-1μL和待測聚合物溶液0.5-1μL，或者分別取基質溶液0.5-1μL、待測聚合物溶液0.5-1μL和離子化試劑溶液0.5-1μL依次點在MALDI質譜配套的靶板上。