[發明專利]用于對電極調溫的系統以及具有這樣的系統的加工設備有效
| 申請號: | 201811569221.5 | 申請日: | 2018-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN109950120B | 公開(公告)日: | 2022-11-29 |
| 發明(設計)人: | C·伯姆;S·拉施克 | 申請(專利權)人: | 邁爾博爾格(德國)有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 劉盈 |
| 地址: | 德國霍恩施泰*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 電極 調溫 系統 以及 具有 這樣 加工 設備 | ||
本發明涉及一種用于對電極調溫的系統。所述系統具有至少一個熱導管、至少一個耦合元件和至少一個調溫裝置。在此,所述熱導管適合于至少部分地并且以至少一個第一端部設置在電極中。所述耦合元件適合于加熱或冷卻熱導管的第二端部,而調溫裝置適合于加熱或冷卻耦合元件。在此,所述電極和所述調溫裝置相互電分離。本發明還涉及一種處理設備,所述處理設備具有處理室和至少一個在處理室之內的電極以及至少一個這種用于對電極調溫的系統。
技術領域
本發明涉及一種用于對一個或多個電極調溫的系統。在此,對所述一個或多個電極調溫通過熱導管實現,由此由調溫裝置能實現對電極均勻調溫和電解耦。此外,本發明涉及一種具有這樣的系統的加工設備。
背景技術
在半導體技術、例如太陽能電池制造和表面技術、如光學鏡片涂層的大量方法中應用處理工藝,在這些處理工藝中能量通過電極引入。對此的示例特別是用于施加、去除或改變覆層的等離子體工藝。所使用的電極在此也可以用作基層支架或氣體供應器。通常應將所使用的電極保持在確定的溫度上,例如以便將一個或多個基層置于對于所規定的工藝合適的溫度并且保持在所述溫度上或者以便避免過強地加熱電極。
為了對這樣的電極實現均勻調溫,常見地使用流體系統或電阻性的加熱器作為調溫裝置。在流體系統中,電極被流體、例如油、水或氣體穿流,其中,流體由外部供應并且又向外部導出。電阻性的加熱器要么作為面狀元件要么作為直線或卷繞的加熱絲設置在電極上或電極中,其中,為加熱器與電極功率無關地由外部供應電能。然而在這兩種情況中,電極功率的一部分通過調溫裝置向外部導出,由此供本來的加工工藝使用的功率減少并且也可能損害調溫裝置本身的部件。因此,通常耗費的絕緣或濾波電路是必要的,以便將調溫裝置與電極電解耦。這特別是對于高頻電極、例如頻率在10kHz至100MHz的范圍中的電極功率中是重要的。
此外,流體系統(特別是當油用作流體時)還具有其他缺點。這樣,電極或基層支架借助于油加熱裝置可達到的溫度例如限制于約 350℃。此外,基于通過流體在流動通過電極或基層支架期間的熱量散發而出現在流體進入電極的地方與流體從電極排出的地方之間的溫度差,由此不可能均勻地對電極調溫。同樣因為如此,在流體系統、特別是基于油的調溫裝置中存在在工藝設備之內泄露的危險,這與用于清潔設備的巨大耗費相聯系。
電阻性的加熱器的缺點在于,這些加熱器僅允許加熱電極或基層支架,然而不允許主動冷卻。
原則上也已知使用熱導管、也稱為熱管,特別是用于冷卻覆層設備中的元件。這樣,例如WO 95/16804 A1描述借助于熱導管對氣體分配板冷卻,所述熱導管垂直于氣體分配盤的流出表面延伸并且在一個端部上被冷卻套包圍,冷卻液體流動通過所述冷卻套并且在此與熱導管的表面直接接觸。在EP 2 481 831 A1中也提到應用用于從高頻電極導出熱量的熱導管,而電極的加熱通過熱催化器、電阻性的加熱器或加熱流體進行。
發明內容
本發明的任務在于,提供一種改善的用于對電極、特別是高頻電極調溫的系統和一種具有這樣的系統的處理設備,其中,保證在調溫裝置和電極之間的良好電解耦并且避免或減少現存的調溫系統的其他缺點。
所述任務通過按照本發明的用于對電極調溫的系統以及處理設備來解決。
按照本發明的用于對電極調溫的系統具有至少一個熱導管、至少一個耦合元件和至少一個調溫裝置。熱導管適合于至少部分地并且以至少一個第一端部設置在電極中,而耦合元件適合于加熱或冷卻所述熱導管的第二端部。調溫裝置又適合于加熱或冷卻耦合元件并且因此用作關于電極的熱源或熱宿。在此,電極和調溫裝置相互電流分開,從而調溫裝置與電極電解耦。電極本身并非必要地是按照本發明的用于對電極調溫的系統的組成部分,而電極與用于對電極調溫的系統相互協調并且適合于相互耦合。為此,所述電極至少適合于至少將熱導管的第一端部容納在電極的內部中。
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