[發明專利]齒狀結構觸頭及直流真空滅弧室及直流真空接觸器

有效

• 申請號: 201811567123.8
• 申請日: 2018-12-20
• 公開（公告）號: CN109698094B
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 馬慧;耿英三;劉志遠;王建華;孫麗瓊;劉劭瑋;劉灃
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所 61215
• 代理人: 何會俠

1.一種齒狀結構觸頭，包括靜側觸頭組合結構(201)和動側觸頭組合結構(202)；其特征在于：所述靜側觸頭組合結構(201)包括靜側導電桿(101)，焊接在靜側導電桿(101)一端的靜側鋸齒狀觸頭結構(103)；所述動側觸頭組合結構(202)包括動側導電桿(107)，焊接在動側導電桿(107)一端的動側鋸齒狀觸頭結構(104)；所述動側鋸齒狀觸頭結構(104)的齒狀端面結構和靜側鋸齒狀觸頭結構(103)的齒狀端面結構在閉合和分開狀態相匹配；所述靜側鋸齒狀觸頭結構(103)和動側鋸齒狀觸頭結構(104)的開槽結構相匹配，燃弧階段在觸頭間隙產生一定的磁場作用；

所述靜側鋸齒狀觸頭結構(103)和動側鋸齒狀觸頭結構(104)為杯狀結構帶有開槽結構的觸頭結構；

所述靜側鋸齒狀觸頭結構(103)和動側鋸齒狀觸頭結構(104)，在其開槽結構互相配合后在觸頭間隙所產生的磁場為橫向磁場。

2.根據權利要求1所述的一種齒狀結構觸頭，其特征在于：所述靜側鋸齒狀觸頭結構(103)和動側鋸齒狀觸頭結構(104)的鋸齒為大齒狀結構，即在兩開槽結構之間為單一鋸齒結構；或者為小齒狀結構，即在兩開槽結構之間為多段鋸齒結構。

3.根據權利要求1所述的一種齒狀結構觸頭，其特征在于：所述靜側鋸齒狀觸頭結構(103)和動側鋸齒狀觸頭結構(104)齒狀端面結構由觸頭材料一體化加工制作，或在觸頭材料斜坡表面加裝觸頭片實現。

4.一種直流真空滅弧室，其特征在于：所述直流真空滅弧室(301)包括權利要求1至3任一項所述的齒狀結構觸頭，焊接在靜側導電桿(101)中部的真空滅弧室靜端蓋板(102)；焊接在動側導電桿(107)中部的波紋管(106)，焊接在動側導電桿(107)遠離動側鋸齒狀觸頭結構(104)一側的真空滅弧室動端蓋板(108)，焊接在真空滅弧室靜端蓋板(102)和真空滅弧室動端蓋板(108)邊緣之間包覆靜側觸頭結構組合(201)和動側觸頭結構組合(202)的真空滅弧室瓷殼(105)。

5.一種直流真空接觸器，其特征在于：包括權利要求4所述的直流真空滅弧室(301)，設置在直流真空滅弧室(301)的動側導電桿(107)外端的絕緣拉桿結構(302)以及設置在絕緣拉桿結構(302)外端的電磁操動結構(303)。