[發明專利]一種用于確定磁電映射關系的方法和裝置

有效

• 申請號: 201811566016.3
• 申請日: 2018-12-20
• 公開（公告）號: CN111345909B
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 鄧立
• 申請（專利權）人: 四川錦江電子科技有限公司
• 主分類號: A61B90/11
• 分類號: A61B90/11;A61B34/20;A61B34/10;G16H50/50
• 代理公司: 四川力久律師事務所 51221
• 代理人: 李正

1.一種用于確定磁電映射關系的運算處理器，其特征在于，所述運算處理器執行以下步驟：

步驟S1：根據實時采集的人體組織局部區域的阻抗坐標數據和磁坐標數據，得到第一幾何模型、第一磁電映射模型和第一校正結果；

步驟S2：將第一幾何模型與系統預設的幾何模型集比較，尋找與第一幾何模型近似的第二幾何模型，第二幾何模型具有與其對應的第二磁電映射模型，第二校正結果；

步驟S3：計算阻抗坐標校正結果的均方誤差；

步驟S4：比較阻抗坐標校正結果的均方誤差和閾值，采用第一校正結果或第二校正結果作為修正后的電場阻抗坐標數據，其中第二幾何模型包括至少部分超出第一幾何模型的空間位置。

2.如權利要求1所述的一種用于確定磁電映射關系的運算處理器，其特征在于，步驟S1中所述的第一幾何模型的計算公式為：

其中分別為電極片貼敷位置的磁坐標。

3.如權利要求1所述的一種用于確定磁電映射關系的運算處理器，其特征在于，步驟S1中所述的第一磁電映射模型包括第一磁電映射模型參數，所述第一磁電映射模型參數包括輸入層到隱藏層的權重矩陣和隱藏層到輸出層的權重矩陣，由所述實時采集人體組織局部區域的阻抗坐標數據和磁坐標數據建立對應關系得到。

4.如權利要求1所述的一種用于確定磁電映射關系的運算處理器，其特征在于，步驟S1中所述第一校正結果的計算公式為：

其中，是第一校正結果，E_mx3為所述實時采集人體組織局部區域的阻抗坐標數據，Layer1_3xN是所述第一磁電映射模型輸入層到隱藏層的權重矩陣，Layer2_Nx3為所述第一磁電映射模型隱藏層到輸出層的權重矩陣。

5.如權利要求1所述的一種用于確定磁電映射關系的運算處理器，其特征在于，步驟S2中所述第二幾何模型具有與其對應的第二磁電映射模型，是因為系統預設的幾何模型集具有對應的磁電映射模型集，具體實現步驟為：

步驟S21：獲取測試樣本集，包括阻抗坐標數據和磁坐標數據，建立幾何模型集；

步驟S22：將測試樣本集中的阻抗坐標數據和磁坐標數據做歸一化處理；

步驟S23：建立磁電映射模型集，所述磁電映射模型集的每個磁電映射模型參數包括輸入層到隱藏層的權重矩陣和隱藏層到輸出層的權重矩陣。

6.如權利要求1所述的一種用于確定磁電映射關系的運算處理器，其特征在于，步驟S2中所述第二校正結果的計算公式為：

其中，M_mx3為第二校正結果，E_mx3為所述實時采集人體組織局部區域的阻抗坐標數據，是所述第二磁電映射模型中的輸入層到隱藏層的權重矩陣，是所述第二磁電映射模型中的隱藏層到輸出層的權重矩陣。

7.如權利要求1所述的一種用于確定磁電映射關系的運算處理器，其特征在于，步驟S3中所述阻抗坐標校正結果的均方誤差計算公式為：

其中，J_MSE為阻抗坐標校正結果的均方誤差，m為所述實時采集人體組織局部區域的阻抗坐標數據的個數，是第k個第二校正結果，M_mx3是第二校正結果集，是第k個第一校正結果，是第一校正結果集，

8.一種包括權利要求1-7任一所述一種用于確定磁電映射關系的運算處理器的裝置，控制單元控制激勵發放裝置按照激勵源V1、激勵源V2、激勵源V3的順序循環依次發放激勵，導管上各電場阻抗采集器分別采集其到電極片之間的阻抗數據，阻抗數據經過放大器進行放大處理，同時所述控制單元控制磁場發生器開啟與關閉，開啟時，導管上的磁場信息采集器采集磁坐標數據，其特征在于，還包括運算處理器，所述運算處理器用于存儲磁坐標數據和經過放大器放大處理后的阻抗數據，并且完成系統參數的初始化、建立第一幾何模型、建立第一磁電映射模型、計算第一校正結果、求解第二幾何模型、求解第二磁電映射模型、計算第二校正結果、計算阻抗坐標校正結果的均方誤差、比較均方誤差和閾值以及輸出修正后的電場阻抗坐標數據。