[發明專利]還原酮醇縮合無機粉體涂覆高聚物隔膜的制備方法

在審

• 申請號: 201811564158.6
• 申請日: 2018-12-20
• 公開（公告）號: CN109713194A
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發明（設計）人: 童慶松;陳方圓;張雪勤;高峰;張曉紅;朱德欽;童君開
• 申請（專利權）人: 福建師范大學
• 主分類號: H01M2/14
• 分類號: H01M2/14;H01M2/16
• 代理公司: 福州君誠知識產權代理有限公司 35211
• 代理人: 戴雨君

1.還原酮醇縮合無機粉體涂覆高聚物隔膜的制備方法，其特征在于制備步驟如下：將0.5～50g聚乙烯吡咯烷酮粉末和0.05～10g羥丙基甲基纖維素粉末加入兩種粉末總體積的10～100倍體積的甲苯或二甲苯溶劑中，在回流體系中攪拌溶解；通入氮氣將回流體系中除凈氧氣，加入金屬鈉顆粒，加熱回流1～20h；除去過量的金屬鈉，減壓蒸餾除去溶劑；將蒸餾剩余物資粉碎為粉末，加入250ml去離子水,再加入無機粉體；攪拌成均勻的膠狀液體；將膠狀液體涂覆在高聚物膜的表面上；置于50～90℃溫度區間真空干燥10min ～48h，制得改性高聚物膜。

2.根據權利要求1所述的還原酮醇縮合無機粉體涂覆高聚物隔膜的制備方法，其特征在于所述的聚乙烯吡咯烷酮粉末，其用量是羥丙基甲基纖維素粉末的重量的10倍。

3.根據權利要求1所述的還原酮醇縮合無機粉體涂覆高聚物隔膜的制備方法，其特征在于所述的無機粉體是AlPO₄、Al₂O₃、Al(OH)₃、B₂O₃、CaF₂、MgO、SiO₂、CaO或CaCO₃。

4.根據權利要求1所述的還原酮醇縮合無機粉體涂覆高聚物隔膜的制備方法，其特征在于所述的羥丙基甲基纖維素，其分子量在5000～50萬范圍內。

5.根據權利要求1所述的還原酮醇縮合無機粉體涂覆高聚物隔膜的制備方法，其特征在于所述的聚乙烯吡咯烷酮的分子量在5000～50萬范圍內。

6.根據權利要求1所述的還原酮醇縮合無機粉體涂覆高聚物隔膜的制備方法，其特征在于所述的高聚物膜是聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯或聚偏氟乙烯隔膜。