[發明專利]一種利用離子注入誘導BiFeO3

有效

• 申請號: 201811554397.3
• 申請日: 2018-12-19
• 公開（公告）號: CN109802033B
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發明（設計）人: 陳德楊;陳超;李才文;鄧雄;孫菲;高興森
• 申請（專利權）人: 華南師范大學
• 主分類號: H10N50/01
• 分類號: H10N50/01;H10N50/85
• 代理公司: 廣州駿思知識產權代理有限公司 44425
• 代理人: 吳靜芝

1.一種利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：對BiFeO₃薄膜注入氦離子，所述BiFeO₃薄膜的晶格隨著氦離子注入量的增加逐漸按菱方相→類四方相→四方相→超四方相的順序發生轉變，變成含有類四方相和/或四方相和/或超四方相的BiFeO₃薄膜，對所述含有類四方相和/或四方相和/或超四方相的BiFeO₃薄膜進行退火處理，使其晶格按超四方相→四方相→類四方相→菱方相的順序發生轉變。

2.根據權利要求1所述利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：所述BiFeO₃薄膜厚度為0～100nm。

3.根據權利要求1所述利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：所述氦離子的注入劑量為5×10¹⁴～5×10¹⁵He/cm²。

4.根據權利要求1所述利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：所述退火處理的溫度為550～650℃。

5.根據權利要求4所述利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：所述退火處理的時間不少于1h。

6.根據權利要求5所述利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：所述退火處理的氣氛為純氧氛圍。

7.根據權利要求6所述利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：所述純氧氛圍的氧分壓為1×10³～1×10⁵Pa。

8.根據權利要求1～7任一項所述利用離子注入誘導BiFeO₃薄膜可逆相變的方法，其特征在于：原始含有菱方相的所述BiFeO₃薄膜采用脈沖激光沉積法制備得到，在溫度為695～715℃、氧壓為15～15.5Pa的條件下使激光轟擊BiFeO₃陶瓷靶材，讓BiFeO₃原子沉積到LaAlO₃單晶襯底上。