[發(fā)明專利]一種高峰值功率2.79微米鉺激光器

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811551993.6
• 申請(qǐng)日: 2018-12-19
• 公開（公告）號(hào): CN109687266A
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張百濤;聶鴻坤;施炳楠;楊克建;何京良
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東大學(xué)
• 主分類號(hào): H01S3/05
• 分類號(hào): H01S3/05;H01S3/06;H01S3/094;H01S3/0941;H01S3/16;H01S3/115;H01S3/117;H01S3/11;G02F1/11
• 代理公司: 濟(jì)南金迪知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219
• 代理人: 陳桂玲

1.一種高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，包括激光泵浦源A、聚焦耦合系統(tǒng)A、激光晶體、調(diào)Q模塊、諧振腔鏡A和諧振腔鏡B；

激光泵浦源A發(fā)出的光經(jīng)聚焦耦合系統(tǒng)A之后入射到激光晶體上，諧振腔鏡A、激光晶體、調(diào)Q模塊和諧振腔鏡B構(gòu)成2.79μm波段鉺激光諧振腔，產(chǎn)生的2.79μm波段中紅外激光從諧振腔鏡B端鏡輸出；

所述激光晶體為Er³⁺、Pr³⁺共摻的激光晶體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，還包括諧振腔鏡C，諧振腔鏡A、激光晶體、調(diào)Q模塊、諧振腔鏡B和諧振腔鏡C構(gòu)成2.79μm波段鉺激光諧振腔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，還包括諧振腔鏡D，諧振腔鏡A、激光晶體、調(diào)Q模塊、諧振腔鏡B、諧振腔鏡C和諧振腔鏡D構(gòu)成2.79μm波段鉺激光諧振腔。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，還包括聚焦耦合系統(tǒng)B、一個(gè)分束鏡和三個(gè)反射鏡，所述激光泵浦源A為雙端泵浦結(jié)構(gòu)，雙端泵浦結(jié)構(gòu)將激光泵浦源A發(fā)出的光經(jīng)分束鏡之后分成功率相等的兩部分，其中一部分經(jīng)過聚焦耦合系統(tǒng)A入射到激光晶體上，另一部分經(jīng)分束鏡由反射鏡反射后再經(jīng)過聚焦耦合系統(tǒng)B入射到激光晶體上。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，還包括聚焦耦合系統(tǒng)B和激光泵浦源B，激光泵浦源A和激光泵浦源B發(fā)出的光分別經(jīng)聚焦耦合系統(tǒng)A和聚焦耦合系統(tǒng)B入射到激光晶體上。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，所述激光晶體的基質(zhì)材料為石榴石結(jié)構(gòu)的晶體或氟化物晶體。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，Er³⁺、Pr³⁺摻雜濃度的比例為1:1～5:1。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，所述激光泵浦源A為脈沖工作的半導(dǎo)體激光器，為線偏振或隨機(jī)偏振。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，所述調(diào)Q模塊為電光調(diào)Q模塊、聲光調(diào)Q開關(guān)、被動(dòng)調(diào)Q模塊中的一種或任意兩種的組合；

優(yōu)選的，所述電光調(diào)Q模塊包括四分之一波片和電光Q開關(guān)，其中電光Q開關(guān)為KDP、RTP、LN、LGS中的一種；所述光調(diào)Q模塊的工作方式采用加壓式或退壓式。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的高峰值功率2.79微米鉺激光器，其特征在于，所述聲光調(diào)Q開關(guān)采用熔融石英、二氧化碲或鉬酸碲鋇晶體；

優(yōu)選的，所述被動(dòng)調(diào)Q模塊中可飽和吸收體采用石墨烯、黑磷、過渡金屬硫化物或者拓?fù)浣^緣體。