[發明專利]基于TPLS模型的批次內操作軌跡調整方法

有效

• 申請號: 201811548703.2
• 申請日: 2018-12-18
• 公開（公告）號: CN109635465B
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 趙忠蓋;汪培蕾;李慶華;陳珺;欒小麗;劉飛
• 申請（專利權）人: 江南大學
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 徐洋洋

1.一種基于TPLS模型的批次內操作軌跡調整方法，其特征在于，包括：

選擇輸入變量和產品質量變量，并從間歇過程中選擇歷史數據，然后按照間歇過程數據的展開形式，將三維的歷史數據展開為二維矩陣，再建立PLS模型：

建立TPLS模型；

給定期望產品的質量特性y_des下，相關主元的求解，如式(3)所示：

t_y＝y_desQ_y (3)；

基于已發生操作軌跡的無關主元求取；

后續參考操作軌跡的求取；

“選擇輸入變量和產品質量變量，并從間歇過程中選擇歷史數據，然后按照間歇過程數據的展開形式，將三維的歷史數據展開為二維矩陣，再建立PLS模型：”中，

式中，X、Y分別為二維輸入和產品數據矩陣，T為主元，P、Q分別為輸入和產品的負荷向量，E、F分別是輸入和產品的殘差；

“建立TPLS模型；”具體包括：

式中，T_y、T_o分別為產品質量的相關主元和無關主元，P_y，P_o和Q_y分別是產品質量的相關主元的回歸矩陣，產品質量的無關主元的負荷矩陣，產品質量對相關主元的回歸矩陣；

“基于已發生操作軌跡的無關主元求取；”具體包括：在批次運行過程中，假設當前時刻以前的操作軌跡為x₁，后續的參考操作軌跡調整為x₂，則滿足

式中，為常數矩陣，則應該滿足

由式(5)即可求出無關主元；

“后續參考操作軌跡的求取；”具體包括：

由式(4)，可得后續參考操作軌跡的調整為

將無關主元的解代入式(6)，即可求得后續參考操作軌跡；

無關主元的解分為三種情況：

式(5)無解，即無法得到一種無關主元使式(5)成立，進而無法得到后續參考操作軌跡，消除掉已發生操作軌跡的影響；基于此，為消除已發生操作軌跡的影響，使式(5)兩端接近，即

將式(7)代入式(6)得到一條優化的后續參考操作軌跡；

式(5)有唯一解，即只有一個無關主元使式(5)成立，進而只有一條后續參考操作軌跡，能夠完全消除掉已發生操作軌跡的影響；

式(5)有無窮解，即有無窮的無關主元使式(5)成立，進而有無窮條后續參考操作軌跡能夠完全消除掉已發生操作軌跡的影響，該后續參考操作軌跡構成了調整空間，在該空間內，任何參考操作軌跡和已發生操作軌跡一起都能產生期望的產品質量。

2.一種計算機設備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述程序時實現權利要求1所述方法的步驟。

3.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該程序被處理器執行時實現權利要求1所述方法的步驟。

4.一種處理器，其特征在于，所述處理器用于運行程序，其中，所述程序運行時執行權利要求1所述的方法。