[發明專利]光學測量裝置與方法

在審

• 申請號: 201811548016.0
• 申請日: 2018-12-18
• 公開（公告）號: CN111257722A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 陳尚駿
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: G01R31/28
• 分類號: G01R31/28;G01R31/311;G02B6/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種光學測量裝置，用以測量光子集成電路，其特征在于，該光學測量裝置包括：

基板；

至少一光波導元件，配置于該基板上；以及

第一連接器與第二連接器，連接至該至少一光波導元件，其中該至少一光波導元件包括從該第一連接器延伸至該第二連接器的光波導，來自第一光纖的部分光信號依序經由該第一連接器傳遞至該至少一光波導元件，經由該光子集成電路的至少一第一漸消式耦合器傳遞至該光子集成電路內部，經由該光子集成電路的至少一第二漸消式耦合器傳遞至該至少一光波導元件，且經由該第二連接器傳遞至至少一第二光纖。

2.如權利要求1所述的光學測量裝置，其中該光波導元件的長度大于或等于該第一連接器與該第二連接器之間的最短距離。

3.如權利要求2所述的光學測量裝置，其中該光波導從該基板的底面彎曲至該基板的側面。

4.如權利要求1所述的光學測量裝置，還包括支撐座，其中該基板配置于該支撐座上。

5.如權利要求4所述的光學測量裝置，其中該光波導從該基板的底面彎曲至該基板的側面后，再彎曲至該支撐座的底面并沿著該支撐座的底面延伸。

6.如權利要求4所述的光學測量裝置，其中該光波導從該基板的底面彎曲至該基板的側面與該支撐座的側面。

7.如權利要求1所述的光學測量裝置，還包括保護層，包覆該至少一光波導元件的表面。

8.如權利要求1所述的光學測量裝置，其中該至少一光波導元件為多個光波導元件，該至少一第一漸消式耦合器為多個第一漸消式耦合器，該至少一第二漸消式耦合器為多個第二漸消式耦合器。

9.如權利要求8所述的光學測量裝置，其中該多個光波導元件在該第一連接器與該第二連接器處的間距大于該多個第一漸消式耦合器的相鄰者的間距，且大于該多個第二漸消式耦合器的相鄰者的間距。

10.如權利要求1所述的光學測量裝置，其中該至少一光波導元件為多個光波導元件，該至少一第二光纖為多個第二光纖，在該多個光波導元件中的光信號經由該第二連接器分別傳遞至該多個第二光纖。

11.如權利要求1所述的光學測量裝置，其中當該光學測量裝置測量該光子集成電路時，該至少一光波導元件直接接觸該至少一第一漸消式耦合器，且直接接觸該至少一第二漸消式耦合器。

12.如權利要求1所述的光學測量裝置，還包括：

多個電性探針，穿過該基板與該至少一光波導元件，

其中，當該光學測量裝置測量該光子集成電路時，該多個電性探針連接該光子集成電路的多個電極。

13.如權利要求1所述的光學測量裝置，還包括：

光檢測器，用以測量來自該第二光纖的該光信號；以及

處理器，電連接至該光檢測器，其中當該光學測量裝置測量該光子集成電路時，該至少一光波導元件接觸該至少一第一漸消式耦合器與該至少一第二漸消式耦合器，而當該光學測量裝置沒有測量該光子集成電路時，該至少一光波導元件不接觸該至少一第一漸消式耦合器與該至少一第二漸消式耦合器，而來自該第一光纖的該光信號經過該至少一光波導元件且由該第二光纖輸出，該處理器用以比較該光學測量裝置測量與不測量該光子集成電路時該光檢測器所測得的該光信號，以校正該光學測量裝置測量該光子集成電路時該光檢測器所測得的該光信號。