[發明專利]一種紫激光光聚合平版印刷版前體

在審

• 申請號: 201811545389.2
• 申請日: 2018-12-17
• 公開（公告）號: CN111324014A
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 李樂;高峰;李旭東;王泳;郭偉鋒;孫偉濤;吳丹;楊爭光;姜香宇
• 申請（專利權）人: 樂凱華光印刷科技有限公司
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075;G03F7/11
• 代理公司: 鄭州中原專利事務所有限公司 41109
• 代理人: 霍彥偉;王文文

本發明公開了一種紫激光光聚合平版印刷版前體，它包括基底、設置在基底上的光聚合可成像層和設置在光聚合可成像層上的水溶性涂覆層，所述光聚合可成像層包括改性納米二氧化硅。本發明由于采用上述改性納米二氧化硅，使版材的耐磨性能得到大幅提高，從而提供了一種更好的高耐印率的光聚合CTP版材，降低了長印程作業時版材的消耗量，從而降低了成本，并提高了工作效率。

技術領域

本發明屬于平版印刷版技術領域，具體涉及一種紫激光光聚合平版印刷版前體。

背景技術

近年來隨著計算機和半導體激光技術的發展，感光性高分子材料作為激光成像材料被廣泛地研究和應用。平版印刷技術已從傳統的激光照排膠片拷貝PS版技術全面走向計算機直接制版技術（簡稱CTP技術），CTP版材也逐漸普及。CTP版材種類很多，比較普及的包括銀鹽擴散CTP版材、UV-CTP版、光聚合CTP版材、熱敏CTP版材等。

所謂的光聚合是指在光的作用下，使單體發生聚合的方法。光引發聚合分直接光引發聚合和光敏聚合兩種。前者，在光的作用下，光引發劑在激發態生成活性種子（自由基或陽離子），引發單體聚合；后者光敏劑首先吸收光，分子從基態躍遷至激發態，通過能量轉移或電子轉移使引發劑分解產生自由基，引發可成像層中的活性物質（含雙鍵化合物）發生聚合反應。因而可根據光敏劑的吸收光譜，實現所需的感光范圍例如紅外光830nm、綠光532nm、藍光488nm以及蘭紫光405nm。

紫激光CTP版材經405nm紫激光曝光，曝光區域的可成像層發生聚合反應而固化，在顯影液中有溶解變為不溶。未曝光區域經顯影加工后被除去，形成印版空白區，曝光區域固化保留下來，形成印版圖像區。其制版過程如下：

曝光→預熱→水洗→顯影→水洗→上膠→印版

在常規或“濕法”平版印刷中，吸油墨區域（稱為圖像區）在親水性表面上生成。 當所述表面用水潤濕并施加油墨時，所述親水性區域保留水并排斥油墨，而吸油墨區域接受 油墨并排斥水。油墨被轉移到在其上將復制圖像的材料表面上。例如，所述油墨可以首先被轉移到中間橡皮布（intermediate blanket）上，所述橡皮布反過來被用來將油墨轉移到在其上將復制圖像的材料表面上。

普通耐磨性能的印刷版前體不能夠較好的滿足長印程用戶的使用需求，使用者往往需要兩套或以上的版材去完成印品的印刷，造成版材使用量的增加，隨之也增加了制版過程中的各種消耗，增加成本的同時，也降低了工作效率。

發明內容

本發明的目的就在于解決現有技術中存在的上述技術問題，提供一種紫激光光聚合平版印刷版前體及其制備方法，可使版材擁有較高的耐印率，減少長印程用戶版材的使用量，從而節省成本和提高工作效率。

本發明的目的是以下述方式實現的：

一種紫激光光聚合平版印刷版前體，它包括基底、設置在基底上的光聚合可成像層和設置在光聚合可成像層上的水溶性涂覆層，所述光聚合可成像層包括改性納米二氧化硅。

所述改性納米二氧化硅為小分子改性納米二氧化硅。

所述小分子改性納米二氧化硅為硅烷偶聯劑、環氧氯丙烷、甲苯二異氰酸酯、甲基丙烯酸異氰酸乙酯，雙酚型縮水甘油醚、甲基丙烯酸縮水甘油酯中的任意一種。

所述硅烷偶聯劑的結構式為RSiX₃，其中X為水解基團，R為帶有功能性基團的有機鏈段。

所述改性納米二氧化硅為大分子聚合物改性納米二氧化硅。

所述大分子聚合物改性納米二氧化硅中的大分子聚合物為聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨脂、聚乳酸、聚甲基丙烯酸縮水甘油酯、聚苯胺、聚酰胺中的任意一種。

所述改性納米二氧化硅的粒徑為5-100nm，優選為10-70nm。